Pr掺杂量对Ce1-xPrxO2晶体结构的影响.pdfVIP

第 34 卷 增刊 1 稀有金鹏材料与工程 Vol.34. Suppl. l 2005 坏 6 月 RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERING June 2005 Pr Pr 掺杂嚣对 Cel-x x02 晶体结构的影响 朱振峰，王若兰 (陕削科技大学，陕因咸阳 712081) 摘 裹 i醒过改变 Pr 掺杂簸，即 Cel.~PrxOl 巾的x 僚 (O.OIx足~0.5的，以 Ce(NO，)，-6H，O. Pr，OIl为克要原料，用低温 燃烧合成法在 247C时291 c点火，告成了具膏纳米晶糙的粉体，其品粮尺寸在 12nm-41nm 之间采用 DSC. XR口. SEM 测试分析手段，研究了 Pr 掺杂童对其结构的影响。结果袭明·所合成粉体为盗石型 Cel_.:Pr 02 固洛体，不闷的 x 值对 x 反应物毒草火温度、产物品型约构及形理由和l~自粮尺寸均有影响@改变 x 值1才反版物C1.火溢皮影响不大，产物品绍给构均 米发1:变化，为均叶的资:E根错构.协杂质 Ce，邸.xPrxOz 粉体的Aß包撞事数均未拂杂的 CeO，相比有不同根庶的减小，说明 Pr 进入 C.O，晶梅形成 Cel_ Pr 02 if换网液体。改变 Pr 掺杂景，颜料晶校校度随x 值的增大而减小。 x x 关键词; Cel，xPrxOa: 低!!l.燃烧合成:晶体结构 中图法分类号 TQ174.75、 2 文献标识码 A 文章编号 1002-185X(2005)S 1-1081 03 曲子 Ce!.，Pr 2 粉体具有卧I 商#臣和化学稳定性[IJ lO C/min. 0 x 等特点，而r~王用于多个领域。它是优良的俄化剂、 采用日本辍学 D/max 2200pc 到 XRD 对产物进行 0 燃料电池、柴油添加剂[2J 。同时该粉休也J也用于陶瓮 物相分析n 扫捕角度从 20到o 80，扫描速率 8 /min ， 颜料，与传统的红色陶经颜料相比， Cel_xPrx02 粉体具 CuK.(40叫40mA)，采样宽度。02。 有低密性、主注色f应网广的特点. orffl 子在穿代乎于逃红色 5，*ffl 日本 JEOL 公均生产的 JSM5800 型扫描也饶 陶辍颜料I如 51 。 对产物进行形貌分析俑 本实骏采用低普通燃烧法(简称 LCS) ，在 247 C 表 1 化合物 Celo; Pr O