第二章薄膜的形成、生长与缺陷.pptVIP

薄膜的形成、结构与缺陷 西北大学信息科学与技术学院 赵丽丽 基本要求： 了解薄膜的形成、结构与缺陷； 理解成核理论。 薄膜的形成、结构与缺陷 2.1 薄膜的形成 2.2 薄膜的外延生长 2.3 薄膜的结构与缺陷 2.1 薄膜的形成 2.1.1 薄膜的生长过程及其分类 2.1.2 形核理论 2.1.1 薄膜的生长过程及其分类 原子到达衬底表面先在衬底上形成一些均匀、细小、可以运动的原子团（ “岛” ）。小岛不断接受新的沉积原子，并与其他小岛合并逐渐长大，而岛的数目则很快达到饱和。在小岛合并过程进行的同时，空出来的衬底表面上又会形成新的小岛。这一小岛形成与合并的过程不断进行，直到孤立的小岛之间相互连接成片，最后只留下一些孤立的孔洞和沟道，后者不断被后沉积的原子所填充。在空洞被填充的同时，形成了结构上连续的薄膜。 小岛合并的过程一般要进行到薄膜厚度达到数十纳米的时候才告结束。 2.1.1 薄膜的生长过程及其分类 岛状生长模式 层状生长模式 层岛结合模式 2.1.2 形核理论 自由能 2.1.2 形核理论 自由能 自发形核，指的是整个形核过程完全是在相变自由能的推动下进行的。 非自发形核，指的是除了有相变自由能作推动力之外，还有其他的因素起着帮助新相核心生成的作用。 临界核 2.1.2 形核理论 一、新相的自发形核 定义：ΔGv是单位体积的固相在凝结过程中的相变自由能之差。 当过饱和度为0