钯-铂双层覆膜聚酰亚胺的CECVD制备与表征.pdfVIP

第37卷 第5期 稀有金属材料与工程 Voi．37，No．5 RAREMETALMATERIALSAND 5月 ENG小陋E剐[NG 2008 2008笠 May 钯一铂双层覆膜聚酰亚胺的CECVD制备与表征 郑建华1，冯文芳2，周锦兰2，田熙科1，俞开潮2 (1．中国地质大学，湖北武汉430074) (2．华中科技大学，湖北武汉430074) Pt被沉积(钯配合物起催化剂作用)，金属铂、钯顺序沉积可形成双层膜。经XPS和SEM分析了所得沉积膜的表面结构 与相组成。结果表明：所有沉积层与PI衬底的粘附性能良好；沉积速率为70一80nm]h，钯、铂粒径分别为100nm和 100-150nm。 关键词：聚酰亚胺：催化增强化学气相沉积；铂薄膜；钯．铂双层膜；表征 中图法分类号：0433．4；0614．82文献标识码：A 文章编号：1002．185X(2008)05．0918-04 与在玻璃衬底上沉积的金属层相比较，在有机薄 mm，咖1cm)中。将圆盘放置在控温加热盘上。加热 板上沉积的金属薄膜更具优点，如轻便、易于加工等 至120℃使溶剂蒸发，得到75ttm厚的PI衬底膜材(其 等。催化增强化学蒸气沉积(CECVD)t卜3】是CVD[4,5]横断面的SEM照片见图1)。 在近期发展的一种改进方法。在CECVD过程中，一 种非催化性的金属被另一种有催化性的金属催化沉 积。它具有降低沉积过程温度，改善金属沉积层纯度 的优点。CECVD对于在聚合物表面上的CVD尤其 有用，因为与玻璃或硅相比较，聚合物熔化温度低， 具聚酰亚胺(PI)有良好的物理性能和化学惰性，而PI 薄型材具有优良的导热和介电性能，可用作集成电路 的绝缘层和护壳【6】。聚酰亚胺的其它金属化方法，如激 光诱导化学液相沉积(LCLD)【7·引或非电镀法【9】等也有 报道。金属Pd和Pt具有优良的抗氧化性、导电和催 图l铝箔(下方)表面上PI膜的SEM照片 SEM of aluminum 化性能[10,11】。对于这2种金属在PI上的沉积来说，CVDFig．1 imagePI(up)on sectional 比其它方法更为优越，因为它条件温和，且可得到较 (cross view) 厚的金属沉积层。而纳米金属材料具有广泛而又重要 Chemical公司， 的用途，是当前纳米科技研究的热点之一。本研究通 配合物PtMe2(COD)(1)购于Strem 过CECVD使Pd，Pt在聚酰亚胺表面上沉积而分别形 成Pt，Pd／Pt和Pt／Pd双层薄膜。所制得的薄膜用X射 线光电子能谱仪(xPs)和扫描电子显微镜(SEM)分析 表征。 1 实验 性较差，在所有实验中，需要加热到60～70℃。在 CECVD实验中，配合物前驱体与催化剂的摩尔比为 聚酰亚胺(PI)为Sigma．Aldrich公司产品。将含有 PI3％一5％的二甲亚砜溶液加到一圆型铝盘(厚0．5约3：l。{配体缩写：COD=l，5一环辛二烯； 收稿日期：2007-05-08 基金项目：国家自然科学基金20675033) yukc@163．com 第5期 郑建华等：钯一铂双层覆膜聚酰亚胺的CE