晶硅太阳能电池表面钝化技术.PDFVIP

晶硅太阳能电池表面钝化技术 应用 晶硅太阳能电池表面钝化工业化镀膜技术 倍耐克公司ALD设备的优越性 由于持续地对降低生产成本和提高转化效率的要求，晶 较高的产能 硅(c–Si)太阳能电池的表面钝化就变得越来越必要了。 目前通过高质量的表面钝化技术提高太阳能电池的转化 • 1600片/小时 (n型电池） 效率已广泛成为一个工业标准。 • 3200片/小时 (p型电池） 原子层沉积技术 较低的成本 原子层沉积（ALD）是一种有序的气相镀膜技术，该技术 • 0.052 欧元/片（n型电池） 可以制备完全保型的和无针孔的 薄膜。基于ALD技术在 • 0.029 欧元/片（p型电池） 通过表面钝化提高晶硅太阳能电池转化效率方面的良好 表现，ALD技术已开始进入光伏行业。 芬兰倍耐克公司 倍耐克公司提供的基于ALD技术的表面钝化的其它优点包 的ALD设备和技术为实现高质量的氧化铝（Al O ）表面钝 括： 2 3 化提供了一个具有竞争力的工业化生产的手段。 • 1%-2%的转化效率的提高 表面钝化的制造工艺 • 无与伦比的薄膜均匀性 • 单一工艺完成双面镀膜（n型电池） 晶硅太阳能电池的表面钝化可以应用于n型和p型电池 • 低污染 (见以下示意图） • 低温镀膜工艺，(150 – 250 °C) • 通过一个ALD镀膜工艺就可以在n型太阳能电池的双面 形成高保型性和高致密性的表面钝化薄膜，这有利于 工艺流程的安排和生产能力的提高。 • 为了确保钝化后的产品的质量，p型太阳能电池在钝化 工艺后需要一个湿刻蚀工序。 晶硅太阳能电池表面钝化技术 ALD 20 nm Al O ,退火后 2 3 在p型太阳能电池中，与注入量(光子)有关的少子寿命作为额 对工业化生产的需要，倍耐克公司可提供 TFS NX300薄膜系统 外载流子密度的函数。此电池经过倍耐克公司ALD设备的Al2O3 (见以上图片和以下图片）。该系统包含4个ALD工艺模块，每个模块 表面钝化技术的处理。实验用的Cz硅片测试前在450°C的氮气