【2017年整理】水污染控制光催化氧化技术.pptVIP

水污染控制 光催化氧化技术 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 目 录 2 光催化氧化技术的基本原理及特点 1. 光催化氧化技术的影响因素 2. 光催化氧化技术存在问题 .3 参考文献 .4 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 光催化氧化技术的概念 3 光催化氧化是在反应溶液中加入一定量的半导体催化剂，使其在紫外光的照射下产生 ，通过 的强氧化作用降解有机污染物。 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 4 光催化氧化技术的基本原理—半导体的能带理论 当用能量等于或大于禁带宽度的光照射时，半导体价带上的电子e-被激发跃迁到导带，同时在价带产生相应的空穴h+，这样在半导体内部生成e-- h+对。它们能够在电场作用下或通过扩散的方式运动，与吸附在半导体催化剂粒子表面上的物质发生氧化或还原反应。 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 5 图1 光催化氧化原理图 价带 禁带 导带 还原性物质被空穴h+氧化 氧化性物质被电子e-还原 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 6 常用的催化剂 光催化氧化常用的催化剂有：TiO2、ZnO、CdS、WO3 等。TiO2原料易得，耐腐蚀性能好，对光的稳定性强，且具有较强的光催化氧化能力，是使用最多的光催化剂。 图2 TiO2光电效应图 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 7 TiO2光催化机理 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 8 光催化氧化技术的特点 适用范围广，处理效果好 反应成本低且反应条件温和 反应易于控制且反应过程不产生二次污染 反应速度快 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 9 光催化氧化的影响因素— 催化剂用量 有机污染物的降解率开始随TiO2用量的增加而提高，当量增加到一定量时降解速率不再提高， 反而有所下降。 开始速率提高是因为催化剂的增加，产生的 增加，当催化剂增加到一定的程度时，会对光吸收有影响。 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 10 Fig.3 Effect of catalyst loading on photocatalytic degradation rate of Brij 35 Experimental condition :[Brij 35]0=0.25mM,I=19.9mW cm-2,VL=250mL,T=298K,pH7.0 最佳催化剂量0.1g/L Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile . Copyright 2004-2011 Aspos