表面界面和多层膜的结构分析-谭伟石.pdfVIP

表面、界面与多层膜的 结构分析 谭 伟 石 南京理工大学理学院 内 容 提 要 一、 薄膜的一些基本概念 二、 薄膜的微结构 三、 薄膜X射线衍射仪 四、 薄膜微结构的X射线散射 表征方法 一、薄膜的一些基本概念  薄膜是一种低维纳米材料。  有别于三维的体材料,低维材料是指某一个 或两个或三个维度上的尺寸与材料的某个 特征长度相当的材料,具体讲来,包括二维 薄膜,一维纳米线(量子线)和零维量子点。  材料维度的变化，会引起材料物性的明显 变化。 薄膜材料的制备方法： 物理气相沉积：蒸发法，脉冲激光沉积， 溅射，分子束外延，离子束沉积,…… 化学气相沉积：CVD 化学溶液制备技术：Sol-Gel，电镀，阳极 氧化，…… 薄膜材料的生长过程：吸附，表面扩 散，形核，成岛，联并 薄膜材料的三种生长模式： (i) Frank-van der Merwe 模式 (F-vdM 模式) layer by layer 模式    0 2 1 12  , : 薄膜和衬底的表面自由能， 2 1  : 薄膜和衬底间的界面自由能 12 ii) Volmer-Weber 模式(V-W 模式)    0 2 1 12 iii) Stranski-Krastinov 模式(S-K 模式) Ge/Si 薄膜材料的类型:单层膜,多层膜(异质结 构),超晶格(周期性多层膜) 薄膜材料的晶体结构特点:单晶膜,多晶 膜,取向多晶膜(柱状晶模型),非晶膜 薄膜材料的表面、界面与晶体微结构的表 征方法： X射线散射技术，SEM，TEM，AES ， SIMS，RBS，XPS ，RHEED， AFM ， …… 二、薄膜的微结构 表征薄膜材料微结构的必要性:  成分(工艺)-结构-性能 薄膜厚度 表面/界面 表面/界面 磁粗糙度 结构粗糙度 层间耦合/ 晶格应变 各向异性等 薄膜 /多层膜 晶格应变的 界面扩散 深度分布 如晶粒大小、结 织构/取向 其它 晶度、径向分布 函数、缺陷、成 分、近邻结构等 X射线技术（衍射，散射，吸收，成像）: 常规ω/2θ扫描 X射线镜面反射率和横向漫散射 摇摆曲线 倒易空间Mapping 掠入射衍射(GIXRD, GID,