空心微球表面电沉积金铜工艺及机理研究.pdfVIP

摘要 基于国内当前ICF聚变靶丸制备的需要，探讨研究新的靶丸制备 方法，以满足类型日益多样化、复杂化的靶丸制备需求，具有很强的 现实意义。通常的球形激光聚变靶丸制备所用的方法有物理气相沉积 法(PVD)、化学气相沉积法(CVD)、化学沉积法、电化学沉积法等， 本文简单论述了各种方法的优缺点，从中看出电化学方法是相对而言 能够比较好的满足当前ICF聚变靶丸制备的需要的一种方法。 根据微球表面电沉积金属涂层的原理，设计并制作了一套适合于 空心微球表面电沉积金属的装置，利用该微球电沉积装置，结合实验 室中已有的常规镀金与镀铜工艺，建立了微球表面电沉积金、铜工艺。 该工艺可望在ICF制靶工作中得到推广和应用。 结合微球表面电沉积的原理与装置，初步建立了一个微球表面电 沉积金属的数学模型，通过对该模型的解得出了在微球表面电沉积过 程中达到稳态平衡状态时的法拉第极限电流公式，利用该公式可以定 性的解释一些实验中遇到的问题。 关键词：空心微球；电沉积；金；铜；极限电流 Abstract Basedthe on currentdomesticneedsoftheICFfusion target ofnewmethodsof hasa preparation，study targetpreparationstrong inordertomeetthe diverseand significance practical increasinglytypes needsof usual fusion complex targetpreparation．Thesphericallasertarget methodsusedin preparation physicalvapor vapordeposition(CVD)，chemicaldeposition，electrochemicaldeposition， etc．This discussesthe and ofeach paperbriefly advantagesdisadvantages whichelectrochemical method．from iSamethodofICFfusion deposition relativetoseetomeetthecurrentneedsbetter． targetpreparation tothe ofmental onhollow Accordingprinciple electro．deposition devicefor surface．a ofmetalonhollow microsphere electro．deposition surfaceiS and ofthe microspheredesignedproduced．Usingmicrospheres with and device．combine