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预制层衬底加热对Cu2ZnSnS4薄膜性能的影响.pdf
人 工 晶体学报
第45 卷第4 期 Vol. 45 No .4
2016 年4 月 JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS April.2016
预制层衬底加热对 C~ ZnSnS
薄膜性能的影晌
4
1 l l 2
张俊芝 , 代福
,范东华
, 郑春来
20;2.
(1.五色大学应用物理与材料学院, 江门 纽约 723仅lO)
陕西理工学院物理与电 工程学院. 汉中
fil
CZTS) nSn(CZ
摘要:本文采用二步法制备Cuz ZnSn乌( 薄膜,首先通过真空热蒸发制备 CuZ 盯预制层,其衬底加热温
汇和 l
20 50 75 预制层在4 ωrrun
度分别为 t: 、 t: 、 ∞t:,然后对所制备的 CZT ∞℃下硫化 ,从而制备出 CZTS
薄
j
XRD SEM αTS
膜。 利用 Raman 、反射谱和透射谱对所和 备的 薄膜进行了表征,实验结果表明,预制层衬底加热
、 、
CZTS 50 t:时制备预制层硫化后所得
温度对 薄膜结构与光学特性有很大影响,在衬底加热 CZTS 薄膜具有高的结
晶度、致密均
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