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干涉光场的纵向效应及其应用.pdf
2008年 2月 吉林师范大学学报(自然科学版) No．1
第1期 Joumal of Jilin Normal University(Natural Science Edition) Eeb．
干涉光场的纵向效应及其应用
陈万金
(吉林师范大学物理学院，吉林 四平136000)
摘 要：对干涉光场的纵向效应进行分析和讨论，推出纵向位移与干涉光场变化的定量关系式，并介绍了在精
密测量中的应用． 、
关键词：干涉；纵向效应；纵向位移；精密测量
中图分类号：0436．1 文献标识码：A 文章编号：1000-1840-(2008)01．0065．02
利用双光束干涉进行精密测量，是现代光测力 光源到观察屏的垂直距离为Z+d／2和Z—d／2，Z
学的重要技术手段之一。双光束干涉光场形成的基 ≥d，两点光源到观察屏上任意一点的光程分别为
本形式，根据干涉光路的结构不同，形成的干涉光场 rI和r2，在旁轴近似条件下，经过繁复的理论推导，
又可分为纵向光场和横向光场，即干涉光场的纵向 可得到接收屏幕上的光强分布为：
效应和横向效应．然而现行光学教材中，在讲到干涉
r)=4，0c0s2[ (1一 )] (2)
光场时，只介绍和讨论其横向效应而从不介绍其纵
向效应．例如图1所示的杨氏实验，可推得接收屏上 (
的光强度分布为[1]：
一 J !==j
，( )=4／0·cos2( ) (1)
S2
-．．．．．．．．．． ．．一 j 。．．．．．．．．．．．．．．．．．-．
图 2
另外，根据图2分析求得rl和r2的一级近似分
Z 量展开式分别为：
d 2+v2
n + +
图1
． d +
r2 一 +
当两点光源之间的距离 d在 0的方向上作横
向位移时，在于Z-方向垂直的接收屏幕上的光强分
若令r2 = +Y ，由相位差公式△ =竽(rI—r2)
布将发生相应的变化．据此可以用来进行精密测
和干涉条纹的分布条件△ ：2nut，可求出干涉条纹
量 J．然而，理论分析和实验结果发现，当两点光源
的半径公式为：
之间的距离d在 0的方向上作横向位移时，在垂直
于 0方向的接收屏幕上的光强度分布也将发生相 ：~／ 2z2 2z2． (3)
应的变化，我们称此现象为干涉光场的纵向效应．下
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