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进入纳米时代的CMOS设计
CMOS
( , 10087 1)
: 本论文着重论述未来CMOS 进入纳米尺寸的关键挑战, 如: 电源电压和阈值电压减小短沟
效 量子效 杂质数起伏以及互连线延迟等影响分析了纳米CMOS 器件结构的设计, 讨论了
用于纳米尺寸的新型器件结构, 包括SOI CMOS双栅和环栅MOSFET 凹陷沟道MOSFET 动态阈值
MOSFET 以及低温CMOS, 它们可能把我们带至硅器件设计的最远极限
: 纳米CMOS SOI 器件 双栅 环栅 凹陷沟道 动态阈值 低温CMOS
, Vth
1
( ) ,
80 CMOS ,
VLSI , ( )
CMOS VLSI
, 018m CMOS 22
DRAM 500MHz /
108 01m ,
CMOS 001m CMOS Vth
15V NMOS PMOS ,
fT 118GHz 67GHz[ 1 , L
CMOS Vth , 02m
, , ( retrograde)
[3
CMOS , 1
, CMOS , Xs ,
2 CMOS 100nm
, ,
CMOS 01m ( halo)
, , Vth 2
: , , ,
, , , , ,
01m ,
[4
21
, 23
, , ,
, ( Vth)
( Ln 10) ( mkT/ q) , Vth 01V, 15V , 36nm
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