反应溅射法在蓝宝石衬底上制备CeO_2缓冲层.pdfVIP

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反应溅射法在蓝宝石衬底上制备CeO_2缓冲层.pdf

第31卷 第6期 稀 有 金 属 2007年 12月 V01.31№ .6 CHINESE JOURNAL OF RARE METALS Dec.2007 反应溅射法在蓝宝石衬底上制备CeO2缓冲层 雷跃刚,王霈文,李 搜,古宏伟 (北京有色金属研究总院超导材料研究中心,北京100088) 摘要:用金属铈作为靶材,采用射频反应磁控溅射法在(1lO2)蓝宝石衬底上制备c轴取向ceo2外延薄膜缓冲层。结果表明在温度低于450 ℃或溅射功率低于5Ow的条件下CeO2薄膜呈(1l1)取向生长;升高温度和功率CeO2薄膜的(1l1)取向减弱,(002)取向增强;在温度高于 750 oC或溅射功率高于120W条件下ce02薄膜呈(1l1)取向和(002)取向混合生长。结合x射线衍射仪和原子力显微镜表征CeO2薄膜的结构 和表面形貌,获得在最优化条件下(衬底温度在680℃左右,溅射功率在8Ow左右,溅射气压在25 Pa,氩氧比在15:1)制备的CeO2薄膜具 有优良的面内面外取向和平整的表面。 关键词:反应溅射;CeO 缓冲层;蓝宝石;外延生长 中图分类号:TB43 文献标识码:A 文章编号:0258—7076(2007)06—0750—05 应用于微波领域的高温超导薄膜最重要的两 而言,CeO 在a轴方向上失配度为6%,b轴失配 个参数是微波表面电阻(R )和临界电流密度 度为12%;与YBCO的失配度仅为0.9%;其介电 (., )[1]。目前,国外低R 高., 的大面积高温超导 常数约为26,高温下化学稳定性好[5 ]。 薄膜已经商品化。而国内的大面积YBa2Cu O 一 为提高沉积速率,本论文采用金属铈作为靶 (YBCO)薄膜的制备技术还有待进一步提高,才能 材,用射频反应磁控溅射法在蓝宝石衬底上外延 满足越来越多的高温超导微波器件及高温超导微 生长CeO 薄膜缓冲层。 波集成子系统的研制需求。蓝宝石单晶是一种很 1 实 验 好的衬底材料。其机械强度大,热导率高,介电常 数小(e。=9~12),介质损耗低(tan83×10 ), CeO 薄膜是在射频磁控溅射设备上制备完成 微波性能优异,并且大面积蓝宝石单晶材料已实 的。衬底为RE—A1 O (1 702)单晶片,其厚度为0.5 现工业化生产,价格相对便宜[2“]。然而,在蓝宝 mm。金属铈靶的直径为75 mm,厚度为5 mm。镀 石衬底上却难以直接生长性能良好的YBCO薄膜。 膜前,衬底先在丙酮中超声清洗5 min,然后冷风 主要原因是蓝宝石与YBCO的晶格常数、热膨胀 吹干。在每次溅射进行前,都先在纯Ar气氛中预 系数差别大,并且在高温下蓝宝石很容易与氧化 溅射10 min左右,以除去金属铈靶表面的氧化物, 钡作用生成铝酸钡,妨碍生成高温超导化合物_1 j。 当观察溅射稳定时,通氧气再预溅射5 min左右, 为了解决上述问题,可以在蓝宝石与YBCO 当观察溅射再次稳定时,移开挡板进行反应溅射 薄膜之间制备一层缓冲层。缓冲层的晶格常数和 沉积。制备CeO 薄膜的工作参数如下:采用溅射 热膨胀系数介于两者之间,且化学性质稳定,在高 气氛为Ar:O 为15:1混合气体,衬底温度450— 温下不发生反应_2]。通过大量的实验证实,CeO 是 750℃,背底真空1.1×10~Pa,溅射气体总压 一 种非常合适的缓冲层材料。其热膨胀系数介于 25 Pa,溅射功率为30—120 W,溅射时间1 h。 蓝宝石和YBCO之间;CeO2具有CaF2结构,属立 对于实验结果分析,本论文采用北京普析通 方晶系,晶格常数是0.5411 nm,与蓝宝石 a=

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