NiOx电致变色薄膜结构与性能的X射线研究.pdfVIP

钟一 叶 等 ：Ni0 电致变色薄膜结构与性能 的 X射线研 究 NiOz电致变色薄膜结构与性能的X射线研究 钟一叶，刘化然，张 欣 ，冯博学 (兰州大学 磁学与磁性材料教育部重点实验室 ，甘肃 兰州 730000) 摘 要： 电致变色是指材料 的光学性能 (光 的透射 、 能及长的使用寿命 (10s)，是 目前 电致变色材料研究 反射和吸收)通过外加 电场或 电流的作 用，在 包括 可见 的热点 。 光波长的某一波长范围内发生可逆变化 的现 象。氧化 与其它制备方法相 比，射频溅射法具有成膜密度 镍薄膜是 目前发现的性能最好的 电致变色材料之一 ， 高 、均匀性好 、与衬底附着力强 ，膜厚可控性和重复性 采 用反应性磁控射频溅射法 ，利 用金属镍作为靶材 ，在 好等特点l6]。 氮与氧混合 气体 中，通过 直流磁控反应溅射法制备氧 本文采用反应性磁控射频溅射法制备 NiO 薄 化镍薄膜 ，用 X射线衍射技术分析其结构 ，用循环伏 膜 ，用 x射线衍射技术和循环伏安法对 Ni()，薄膜 的 安法对NiO 薄膜的电致变色过程进行分析 。 结构和 电致变色过程进行分析，可知 NiO 薄膜为 关键词 ： 电致变色 ；射频溅射 ；NiO 薄膜 ；X射线衍 NiO和Nio。的混合相 ，其变色是 由于 H 离子 的注 射 技术 入与抽出。 中图分类号： O484．4 文献标识码 ：A 2 实 验 文章编号 ：100卜9731(2O10)04-0659-03 氧化镍薄膜 的制备采用 国产 JS一450射频溅射 台， 1 引 言 射频电源频率为 13．56MHz，如 图2所示 。该溅射 台 NiO是一种 NaC1型结构 的晶体 (如图 1所示)，是 的真空系统采用机械泵和油扩散泵 。靶为直径 8cm 一 种反铁磁性材料 ，它的N6el温度 TN一523K。理想 的纯镍 (99．9 )，厚度为 2．5mm。基 片与靶 的距 离为 配 比的NiO是绝缘体 ，它在室温下 的电阻率 比较高 (r 5cm。溅射气氛为 Ar+o 的混合气体。溅射气体先 1013cm)Eli，为 绿 色 粉 末 ，加 热 时为 黄 色 ，熔 点 在混汽缸中按一定 比例混合后通入真空室 ，溅射压强 1984℃，密度为 6．67g／cm。，不溶于水 ，溶于硫酸 、硝酸 保持在 0．665～1．33Pa左右。溅射电压为 2kV，溅射 和盐酸 ，不溶于强碱而溶于氨水。而富氧 的非理想 功率为 60W，预溅射 10min后开始镀膜 ，溅射 时基 片 NiO、掺 H 或 Ii。。的NiO是一种 P型半导体材料 ]， 自然升温至 110℃左右。 是黑色的粉末 ，不溶于水也不溶于酸 ，将 NiO在空气 RF 中加热到 400℃即氧化成 Ni。O。，加热到 600℃，又还 原成一氧化镍。。]。 o Nj ●O 图1 NiO结构 示意图 Fig 1ThesketchmapofNiO structure 图2 射频溅射设备示意 图 NiO 薄膜作为 阳极 电致变色材料 ，具有低能耗 、 Fig2ThesketchmapofRF sputtering 高着色效率和开路记忆等特性 ]，因其价格低廉、电致 为便于研究 ，实验 中采用两种玻璃作为样 品基片。 变色性能好而受到重视 ，被广泛应用于汽车观后镜 ，反 一 种为没有镀膜 的医用载玻片；一种为沉积厚度为 射电致变色器件，电致变色显示