Ni纳米薄膜降解罗丹明B的光电催化性能和反应机理.pdfVIP

第 25卷第 8期 中国有色金属学报 2015年 8月 Volume25Number8 TheChineseJournalofNonferrousM etals August2015 文章编号：1004—0609(2015)08-2196—09 Ag3PO4／Ni纳米薄膜降解 罗丹明B的光电催化性能和反应机理 李爱昌，赵 娣，刘盼盼，孙少敏，刘 萌 (廊坊师范学院 化学与材料科学学院，廊坊 065000) 摘 要：采用电化学方法制备 Ag3PO4／Ni薄膜，以扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)~n紫外一可见漫反射光谱 (UV．VisDRS)对薄膜的表面形貌、晶相结构、光谱特性及能带结构进行表征，以罗丹明B为模拟污染物对薄膜的 光电催化活性和稳定性进行测定，采用向溶液中加入活性物种捕获剂和通氮除氧方法对薄膜的光催化降解机理进 行探索，并提出光 电催化降解罗丹明B的反应机理。结果表明：最佳工艺下制备的Ag3PO4／Ni薄膜具有致密的层 状表面结构，是由多晶纳米颗粒构成的薄膜。该薄膜具有显著的光电催化活性，在最佳阳极偏压下，光电催化罗 丹明B的降解率是多孔P25TiO2／ITO薄膜的6．69倍；相对于未加偏压的光催化，降解率提高了5．34倍，并且具 有突出的光 电协同效应。同时，该薄膜具有优异的光催化和光 电催化稳定性。在 0．1V阳极偏压下，可使光催化 稳定性提高近一倍。 关键词：AgPO4N／i薄膜；阳极偏压；光电催化；罗丹明B；反应机理 中图分类号：0643；TG146_3 文献标志码：A Photoelectrocatalyticpropertyandreactionmechanism of Ag3PO4／Ninanothinfilm fordegradingrhodamineB LIAi-chang，ZHAO Di，LIU Pan—pan，SUN Shao—min，LIU Meng (FacultyofChemistryandMaterialScience，LangfangTeachersCollege，Langfang065000，China) Abstract：Ag3PO4／Nithin filmswerepreparedbyelectrochemicalmethod．Thesurfacemorphology,phasestructure， opticalcharacteristicsandbandstructureofthethinfilmwereanalyzedbyscanningelectronmicroscopy(SEM)，X—ray diffraction (xRD) and ultraviolet—visible diffuse reflectance spectroscopy (UV-VisDRS)，respectively．The photoelectrocatalyticpropertiesandstabilityofthiscoatingwereevaluatedwithrhodamineB(RhB)asamodel compound．Throughaddingactivespeciesscavengerandremovingoxygenwithnitrogentothesolution，themechanism ofphotoelectrocatalyticdegradationofthefilm wasexplored．Themechanismsofphotoeletrocatalyticreactiononthe film forRhB undervisibleirradiationwereinputted．Theresultsshow that，undero