基底结构对纳米铜膜光电性能影响.pdfVIP

助 财 料 2013年第6期(44)卷 基底结构对纳米铜膜光电性能影响 孟灵灵 ，魏取福 ，黄新 民 (1．盐城工学院 纺织服装学院，江苏 盐城 224051；2．江南大学 生态纺织教育部重点实验室，江苏 无锡 214122) 摘 要： 采用射频磁控溅射法，在 涤纶机 织布、纺粘 纳米铜膜可以采用蒸镀 、溅射 、等离子体辅助化学 非织造布、针织布、纤维膜表面沉积纳米铜薄膜，并用 气相沉积等来制备_[g ，本文采用射频磁控溅射法在 紫外一可见分光光度计与 四探 针测试仪 测试样品透光 纯涤纶机织布、针织布、纺粘非织造布和静 电纺纤维膜 和导电性能，用彩色摄像机观察溅射样品的表面形貌 ， 基材表面溅射 1层相同厚度 的纳米铜薄膜 ，研究分析 用毛管流动孔隙仪测试不 同基底孔 隙大小及分布 ，并 基材孔径、孑L隙率及不 同组织结构对样品光透射率和 对结果进行比较分析。结果表 明，基底布表面结构形 导电性能的影响。 貌与孔隙大小对样品光透射率、导电性能均产生影响。 2 实 验 随基底布孔隙率的增加，样品透射率提 高，导电性能减 弱 ，针织布由于其松散的线圈结构使得其表面电阻难 2．1 实验仪器 以测知 。 SK3200LH超声波清洗器 (上海科导仪器有 限公 关键词 ： 磁控溅射；纳米铜膜 ；透光性能；导电性能 司)，频率 40～59kHz；JZCK一420B磁控溅射设备 (沈 中图分类号 ： TS174 文献标识码 ：A 阳聚智科技有限公司)；JVC彩色摄像机，日本 JVC公 文章编号 ：1001—9731(2013)060822—04 司提供 ；毛管流动孔隙仪，美 国PMI公司生产；紫外一 可见分光光度计 UV一2802，上海兰科仪器有 限公司提 1 引 言 供 ；SZT一2A 四探针测试仪 ，苏州同创 电子有 限公司生 铜薄膜具有低电阻率 、良好 的导热性能等独特 的 产 ；日立 S48OO型冷场发射扫描电子显微镜。 性质 ,2j，纳米铜薄膜是一种新型功能材料，粒子尺寸 2．2 实验材料及其基本参数 小 ，具有表面效应 、量子效应等特有的性质，具有 良好 选用 99．99 高纯金属铜 (直径为 50ram)为靶材 ， 的导电性能和抗 紫外性能，在化工、纺织、医学 、光学 、 合肥科晶材料技术有限公司提供 ；高纯氩 (99．999 ) 电子等行业 ，具有广 阔的应用前景 “]。近年来 ，国内 为溅射用气体 ，由无锡华盛气体有限公司生产 ；基底成 外对纳米铜膜制备工艺、微观结构、性能等进行了大量 分为涤纶 ，选用机织布、针织布 (纬编)、纺粘非织造布 的研究 _8l，但有关基底组织影响纳米铜膜光 电性能的 以及纤维膜，试样尺寸为 20cm×20cm，基本参数如表 对 比研究，至今报道较少 。 1所示 。 表 1 基材基本参数 Table1Parametersofthesubstrates 密度 (根 ／lOcm) 线 密度 紧度 ( ) 厚度 面密度 试样 经 向 纬 向 经纱 纬纱 经 向 纬 向 总 (mm) (g／m。) 1 涤纶机 织布 26O 140 281D／100F