电子束蒸发和离子束溅射HfO 紫外光学薄膜 - 中国光学.PDFVIP

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2017-06-30 发布于天津
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电子束蒸发和离子束溅射HfO 紫外光学薄膜 - 中国光学

第 3 卷第 6 期中国光学与应用光学 Vol. 3 No. 6 2010 年 12 月 Chinese Journal of Optics and Applied Optics Dec. 20 10 文章编号 1674-2915( 2010) 06-0630-07 电子束蒸发和离子束溅射 HfO2 紫外光学薄膜邓文渊, 李春, 金春水 ( 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 吉林长春 130033) 摘要: HfO 薄膜在紫外光学中具有十分重要的地位, 不同方法制备的 HfO 薄膜特性不同, 可以满足不同的实际应用需 2 2 求。本文分别利用电子束蒸发和离子束溅射方法制备了用于紫外光区域的 HfO 薄膜, 并对薄膜的材料和光学特性进行 2 了表征与比较。通过对单层 HfO 薄膜的实测透射和反射光谱进行数值反演, 得到了 HfO 薄膜在 230 ～800 nm 波段的折 2 2 射率和消光系数色散曲线, 结果表明两种方法制备的 HfO 薄膜在 250 nm 的消光系数均小于 2 ×10 - 3 。在此基础上, 制 2 备了两种典型的紫外光学薄膜元件( 紫外低通滤波器和 240 nm 高反射镜) , 其光谱性能测试结果表明, 两种不同方法制备的器件均具有较好的光学特性。关键词: 薄膜光学; 电子束蒸发; 离子束溅射; 高反射镜; X 射线衍射术; X 射线光电子能谱中图分类号: O484. 4 文献标识码: A Ultraviolet HfO2 thin film by e-beam evaporation and ion beam sputtering DENG Wen-yuan, LI Chun, JIN Chun-shui ( Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun 130033, China) Abstract: HfO thin film is one of the most important films for optical applications in ultraviolet optics. As 2 different fabrication methods will result in the different properties, it is essential to choose appropriate fabrica- tion methods