基于数字微镜的无掩模数字光刻系统的研制.pdfVIP

第33卷第6期 压 电 与 声 光 Vol_33No．6 2011年12月 PIEZOEIECTRICS AC()UST00PTICS Dec．2O11 文章编号 ：1004—2474(2011)06—0856—03 基于数字微镜的无掩模数字光刻系统的研制 陈 劲 松 (安徽财经大学 电子信息工程系 ，安徽 蚌埠 233000) 摘 要 ：研究了一种基于数字微镜 的无掩模光刻系统 。利用数字微镜输 出的高精度数字掩模 ，结合高质量的 高倍精缩投影光学系统 ，理论上完全可实现亚微米级衍射微光学元件 的制作 。该文从照明系统、数字微镜芯片、精 缩物镜设计等方面进行了系统总体设计。利用该系统成功制作了5×5达曼光栅、8台阶闪耀光栅和8台阶菲涅耳 透镜 ，进一步论证 了该系统的可行性 。 关键词 ：数字微镜 ；灰度掩模 ；数字光刻 中图分类号 ：TB133 文献标识码 ：A ResearchonNon—M askDigitalLithographSystem Basedon DigitalM icro-mirrorDevice CHENJinsong (Dept．ofElectronicInformationEngineering，AnhuiUniversityofFinance Economics，Bengbu233000，China) Abstract：A non-masklithographsystem basedondigitalmicro—mirrordevice(DMD)isresearched．Usingthe highprecisiondigitalmaskfrom DMD，andcombinedwithhighqualityreductionprojectingsystem，thefabrication ofsub—microndiffractiveopticalelementscanberealizedcompletelyintheory．Theoveralldesignofsystem isgiven includinglightingsystem ，DMD chipandreductionfieldlens．Usingthesystem ，5×5dammanngrating，eight—step blazedgratingandeight-stepFresnetlensismanufacturedsuccessfully，furtherdemonstratingthefeasibilityofthis system ． Keywords：digitalmicro—mirrordevice；graymask；digitallithography 0 引言 现亚微米级衍射微光学元件的制作 。本文研制了一 套实用新型的基于 DMD的无掩模数字光刻系统 ， 衍射微光学元件 的制作方法主要有激光直写 对衍射光学元件的大批量生产和产业化 ，推动其在 法、电子束直写法和灰度掩模法_1]3种 。其 中灰度 国防和工业等领域的应用具有重要意义 。 掩模法最有发展前途 ，其关键是制作一张高精度的 灰度掩模板，以实现曝光量的精确控制；但传统的灰 1 DMD工作 原理 度掩模技术不能根据实验情况对掩模进行实时修 图1为 DMD单个微镜结构 图。采用大规模集 改。利用 电寻址空 间光调制器 (SLM)液晶显示系 成电