氮气含量对反应射频磁控溅射制备crn 薄膜组织与 - 重庆理工大学学报.pdfVIP

第２６卷　第１２期 重 庆 理 工 大 学 学报（自然科学） ２０１２年１２月 Ｖｏｌ．２６　　Ｎｏ．１２ ＪｏｕｒｎａｌｏｆＣｈｏｎｇｑｉｎｇＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（ＮａｔｕｒａｌＳｃｉｅｎｃｅ） Ｄｅｃ．２０１２  ｄｏｉ：１０．３９６９／ｊ．ｉｓｓｎ．１６７４－８４２５（ｚ）．２０１２．１２．００５ 氮气含量对反应射频磁控溅射制备 ＣｒＮ 薄膜组织与性能的影响 ｘ 陈　勇，李　晖，许洪斌，王　松 （重庆理工大学 材料科学与工程学院，重庆　４０００５４） 摘　　　要：采用反应射频磁控溅射法在４０Ｃｒ基体上制备 ＣｒＮ 薄膜，研究了不同氮气含量对 ｘ 薄膜组织形貌、粗糙度、沉积厚度以及纳米硬度和弹性模量的影响。结果表明：采用反应射频磁 控溅射法在不同氮气含量下，可制备得到厚度均匀、表面质量好的ＣｒＮ 薄膜；随着氮气含量的 ｘ 增加，薄膜的表面光洁度先逐渐增大，氮气含量为２０％时光洁度值最大为０．０２４ ｍ，之后光洁 μ 度缓慢下降；薄膜的沉积厚度也随着氮气含量的增加而先增大后减小，氮气含量分别为２０％和 ５０％，薄膜厚度出现最大值８．７ ｍ和最小值２．１ ｍ；随着氮气含量的变化，当含量为２０％时纳 μ μ 米硬度最大值为３０．９ＧＰａ，弹性模量为４２２．６ＧＰａ。 关　键　词：反应射频磁控溅射；ＣｒＮ 薄膜；氮气含量；纳米硬度；弹性模量 ｘ 中图分类号：ＴＧ１７４．４５３　　文献标识码：Ａ 文章编号：１６７４－８４２５（２０１２）１２－００２１－０５ ＩｍｐａｃｔｏｆＮｉｔｒｏｇｅｎＣｏｎｔｅｎｔｏｎｔｈｅＳｔｒｕｃｔｕｒｅａｎｄＰｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆ ＲｅａｃｔｉｖｅＲＦＭａｇｎｅｔｒｏｎＳｐｕｔｔｅｒｉｎｇＣｒＮ Ｆｉｌｍｓ ｘ ＣＨＥＮＹｏｎｇ，ＬＩＨｕｉ，ＸＵＨｏｎｇｂｉｎ，ＷＡＮＧＳｏｎｇ （ＳｃｈｏｏｌｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ， ＣｈｏｎｇｑｉｎｇＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｃｈｏｎｇｑｉｎｇ４０００５４，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：ＣｒＮｆｉｌｍｓｗｅｒｅｄｅｐｏｓｉｔｅｄｏｎ４０Ｃｒｓｔｅｅｌｗｉｔｈｖａｒｙｉｎｇｎｉｔｒｏｇｅｎｃｏｎｔｅｎｔ，ｕｓｉｎｇｒｅａｃｔｉｖｅＲＦ ｘ （ｒａｄｉｏｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）ｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ．Ｔｈｅｓｔｒｕｃｔｕｒｅｔｏｐｏｇｒａｐｈｙ，ｒｏｕｇｈｎｅｓｓａｎｄｔｈｉｃｋｎｅｓｓ，ａｓｗｅｌｌ ａｓｎａｎｏｈａｒｄｎｅｓｓ，Ｙｏｕｎｇ’ｓｍｏｄｕｌｕｓｗｅｒｅｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｅｄ．ＲｅｓｕｌｔｓｓｈｏｗｅｄｔｈａｔＣｒＮｆｉｌｍｓｐｒｅｐａｒｅｄｂｙ ｘ ｒｅａｃｔｉｖｅＲＦｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇｉｎｄｉｆｆｅｒｅｎｔｎｉｔｒｏｇｅｎｃｏｎｔｅｎｔｏｆｕｎｉｆｏｒｍｔｈｉｃｋｎｅｓｓａｎｄｓｍｏｏｔｈｓｕｒ ｆａｃｅ．Ｔｈｅｒｏｕｇｈｎｅｓｓｏｆｔｈｅｆｉｌｍｉｎｃｒｅａｓｅｄｇｒ