磁头与离散磁道式磁盘瞬态接触行为研究 (1).pdf

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第 19卷第 1期 工 程 设 计 学 报 Vol_19NO.1 2012年 2月 ChineseJournalofEngineeringDesign Feb.2O12 DOI:10.3785/j.issn.1006—754X.2o12.O1.007 磁头与离散磁道式磁盘瞬态接触行为研究 张广玉,李隆球 ,菅翠营,王 林 (哈尔滨工业大学 机 电工程学 院,黑龙江 哈尔滨 150001) 摘 要 :离散磁道式磁盘在与磁头瞬态接触过程 中极 易损坏.为改善离散磁道式磁盘的瞬态接触状况 ,采用有 限元 仿真方法 ,建立 了平整化前后离散磁道式磁盘与磁头的瞬态接触模型,分析 了平整化前后离散磁道式磁盘接触应 力分布特点,研究了磁头冲击速度 、径 向速度 、磁盘表面摩擦系数等接触条件及平整化对离散磁道式磁盘最大等效 塑性应变、塑性应变总体积的影响.结果表明:磁头冲击速度 、寻道速度增大均可导致磁盘最大等效塑性应变、塑性 应变总体积增大 ;摩擦系数增大可增大磁道最大等效塑性应变、减小塑性应变总体积 ;在接触初期,平整化离散磁 道式磁盘可以减小磁道最大接触应力 ,缓解应力集中现象 ;在接触全过程 中,平整化离散磁道式磁盘可 以减小磁道 最大等效塑性应变及塑性应变总体积 ;平整化所用 2种弹性模量等力学特性不 同的填充材料 ,即磁道材料与类金 刚石碳 ,对于磁道接触状况的改善作用 区别较小.以上结论可为降低离散磁道式磁盘的破坏程度提供理论指导. 关键词 :离散磁道式磁盘 ;平整化 ;接触应力 ;等效塑性应变 中图分类号 :TB12 文献标志码 :A 文章编号 :1006—754x(2O12)010034—05 Research oftransientcontactbehaviorbetween slider and discretetrack recordingmedia ZHANG Guang—yu,LILong—qiu,JIAN Cui—ying,W ANG Lin (SchoolofM echatronicsEngineering,HarbinInstituteofTechnology,Harbin 150001,China) Abstract:Discretetrack recording(DTR)mediaispronetobedamagedduringthetransientcon— tactw iththeslider.InordertoimprovethetransientcontactconditionofDTR media,atransient slider/DTRmediacontactmodelwaspresentedbyusingfiniteelementmethod.Thedistribution characteristicsofcontactstressfieldofDTR mediawereinvestigated beforeandafterplanariza— tion.Theeffectofcontactprerequisites and planarization on the maximum equivalentplastic strain andthetotalvolumeofplasticstrainwasanalyzed.Theresultsshow thatthemaximum e— quivalentplasticstrainandthetotalvolumeofplasticstrainincreasewithincreasesoftheimpact andradialvelocityoftheslider.ItiSalsofoundthatthemaximum equivalentplasticstrainincrea— sesandthetotalvolumeofthep

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