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高管团队背景特征_高管激励与企业_省略_自A股上市高新技术企业的数据分析_何霞
2012 6 科技管理研究 2012 No. 6
年第 期
Science and Technology Management Research
doi :10. 3969 /j. issn. 1000 － 7695. 2012. 06. 024
、 R＆D
高管团队背景特征 高管激励与企业 投入
——— A
来自 股上市高新技术企业的数据分析
1 ，2 2
，
何 霞 苏晓华
(1. ， 511483 ;2. ， 510632)
广州番禺职业技术学院 广东广州 暨南大学 广东广州
: 105 ， 、
摘要 以沪深两市 家高新技术上市企业为研究样本 选取衡量高管团队背景特征的六项指标 高管激励的
R＆D ， 、 R＆D 。
三项指标及企业 投入的两项指标 构建高管团队背景特征 高管激励与企业 投入的调节效应模型
: 1() R＆D ;
研究结果表明 高管团队教育程度和专业背景与企业 的人力资源投入水平显著正相关 职能背景与企
R＆D ; R＆D 。 (2)
业 经费投入水平显著正相关 而高管团队年龄与企业 的经费投入水平显著负相关 高管薪酬激
励和股权激励正向促进了企业的R＆D 投入水平。 (3)高管股权激励在高管团队年龄和企业R＆D 经费投入的之
; R＆D
间关系上起到了重要的调节作用 高管晋升激励在高管团队性别和企业 人力资源投入之间的关系上发挥着
重要的调节作用。
: ; ;TMT ; ; R＆D
关键词 高管团队 高层梯队理论 背景特征 高管激励 企业 投入
中图分类号:F272 ;F272. 92 文献标识码:A 文章编号:1000 － 7695 (2012)06 － 0100 －
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