沉积温度对热舟蒸发mgf2 薄膜性能的影响3.pdfVIP

　第 20 卷 　第 3 期 强 激 光 与 粒 子 束 Vol . 20 ,No . 3 　 　2008 年 3 月 H I GH PO W ER L A SER AND PA R T ICL E B EA M S Mar . ,2008 　 文章编号 : 　100 14322 (2008) 沉积温度对热舟蒸发 MgF 薄膜性能的影响 2 1 1 2 尚淑珍 , 　赵祖欣 , 　邵建达 ( 1. 华东理工大学 机械与动力工程学院 承压系统安全科学教育部重点实验室, 上海 200237 ; 2 . 中国科学院 上海光学精密机械研究所, 上海 20 1800) ( ) 　　摘 　要 : 　采用热舟蒸发方法沉积了氟化镁 MgF2 材料的单层膜 ,沉积温度从 200 ℃上升到 350 ℃,间隔 为50 ℃。测量了样品的透射率和反射率光谱曲线 ,进行了表面粗糙度的标定 ,并在此基础上进行了光学损耗 及散射损耗的计算 。同时对 355 nm 波长处的激光诱导损伤阈值进行了测量 。结果表明:随着沉积温度的升 高 ,光学损耗增加 ;在短波长范围散射损耗在光学损耗中所 占比例很小 ,光学损耗的增加主要由吸收损耗引起 ; 在 355 nm 波长处的损伤阈值变化与吸收损耗的变化趋势相关 ,损伤机制主要是吸收起主导作用 。样品的微缺 陷密度也是影响损伤阈值的一个重要因素 ,损伤阈值随缺陷密度的增加而降低 。 　　关键词 : 　光学薄膜 ; 　氟化镁 ; 　光学损耗 ; 　吸收 ; 　损伤阈值 　　中图分类号 : 　O484 . 4 　　　　文献标识码 : 　A 　　目前国际上对紫外薄膜材料的研究主要集中在准分子激光波长 35 1 nm ( Xe F) ,308 nm ( XeCl) ,248 nm ( ) ( ) ( ) ( ) Kr F ,193 nm A r F 和 N d : YA G 激光的三倍频 355 nm 和四倍频 266 nm 。波长越短 ,可用的镀膜材料越 少 。人们对各种薄膜材料的光学特性虽然进行过很多的研究 ,但由于影响薄膜光学性能的参数太多 ,报道的结 [ 112 ] ( ) [ 18 ] 果比较分散 。氟化镁 M gF2 材料是紫外波段光学薄膜最具应用潜力的材料之一 ,虽然已被广泛研究 , 但是 ,因为薄膜的性能强烈依赖于沉积方法和沉积工艺条件[38 ] , 掌握和控制在各个具体制备条件下薄膜的光 学特性是制造优质薄膜元件的重要环节 , 因此对 M gF2 材料还需要做更深入的研究 。对低光学损耗的 M gF2 薄膜来说 ,真空蒸发在所有的沉积方法中是比较适合的 ,而沉积温度又是最重要的工艺参数之一[2 ,8 ]