光斑尺寸对光学薄膜元件温升的影响.pdfVIP

第19卷 第12期 强 激 光 与 粒 子 束 Vo1．t9，NO．t2 2007年12月 HIGH POWER LASER AND PARTICLE BEAMS Dec．，2007 文章编号： 1001—4322(2007)12—1983—04 光斑尺寸对光学薄膜元件温升的影响 代 福 ， 熊胜明 (1．中国科学院光电技术研究所，成都 610209；2．中国科学院研究生院，北京 100039) 摘 要： 实验测量了波长l 064 nm，10 kHz高重复频率激光辐照下在白宝石、石英玻璃、K。基片上制备 的Ta。0 ／sio。高反膜的温度变化，有限元分析的结果与实验结果相一致。用ANSYS程序计算了不同光斑直 径、相同功率激光和相同功率密度激光辐照下薄膜元件温升的变化。结果表明：相同功率激光辐照光学薄膜元 件时，光斑大小只影响激光辐照点的温升，对基板温升没有影响。基板温升只与激光功率有关，激光功率越大， 基板温升越大。相同功率密度激光辐照光学薄膜元件时，光斑越大，激光辐照点温度及基板温度均越高。从激 光损伤的热效应考虑，小光斑激光辐照时，光学薄膜的激光损伤阈值较高。 关键词：重复频率激光；光斑； 光学薄膜； 温升； 激光损伤阈值 中图分类号： 0484．4 文献标识码： A 光学薄膜元件是激光器及其相关光学系统中的重要元件，其抗激光损伤能力往往限制着高能量和高功率 激光器的发展和应用。在单脉冲或低重复率脉冲激光辐照下，薄膜的损伤主要表现为由缺陷诱导的场致损伤， 减小膜系最外面高折射率层的驻波场峰值可以显著提高单脉冲激光辐照下薄膜的激光损伤阈值 ]。在高重 复频率脉冲激光或连续激光辐照下，薄膜的损伤主要是由热效应所引起的【3 ]。研究高重复频率脉冲激光辐照 下薄膜元件的温升规律，探究影响薄膜元件温升的因素，可以有效降低激光辐照时薄膜温度的升高，提高薄膜 的抗激光损伤阈值，延长薄膜的使用寿命。本文采用数值方法和实验结果相结合的研究方法，实验测量了波长 1 064 nm，i0 kHz高重复频率激光辐照下在白宝石、石英玻璃、K。基片上制备的Ta。O。／SiO。高反膜的温升 变化。采用有限元ANSYS程序对实验结果进行了计算分析。 1 理论模型 激光束辐照下的多层膜系如图1所示，基板厚z，镀有周期性交替分布的 高折射率材料和低折射率材料。取柱坐标系，坐标原点位于样品的激光入射 表面中心，激光照射方向与 轴一致，高斯型空间分布的激光束照射在样品表 面( 一0)，其光强分布为 I(r，￡)一EP0(￡)／兀，．。]exp[一(r／R)。] (1) 式中：R为人射光束半径；P。(￡)为激光的瞬时输出功率。t一0时刻，激光开始 照射样品，初始时刻，样品温度分布均匀，计为 。考虑到吸收的存在，各个 膜层即成为“热源”，在单脉冲激光作用下，由于脉冲宽度较小，一般认为，沿 Fig．1 Schematic diagram of the 方向在远离激光辐照点的基底出射面以及沿r方向薄膜表面上距离激光辐照 multilayer coating irradiated by laser beam 点的3倍高斯半径处的温度不随热源及辐照时间发生变化，膜层的2维温度 图1 激光束辐照下的多层膜系示意图 分布计算可由相应的热传导方程采用“交替隐型算法” 阳得出。在高重复频 率脉冲激光辐照下，由于基板的传热，基底出射面的温度会升高，样品内部的温度场丁(，一， ，￡)满足热传导方 程 ] 一 k 3 磐+ +磐+ (￡) xp[一(re／R。)一J＆] (2)