电压和时间对微弧氧化法制备的TiO2陶瓷薄膜的光催化性能的影响论文.pdfVIP

真空科学与技术学报 第25卷增刊 OFVACUUMSCIENCEAND JOURNAL TECHNOLOGY(CrⅡNA)2005年12月 电压和时间对微弧氧化法制备的Ti02陶瓷 薄膜的光催化性能的影响 曹 立徐刚 韩高荣’ 郑宏晔 (浙江大学材料系杭州310027) OxidationConditionsofTiand of CeramicFilms PhotocatalysisTi02 Cao Li，Xu Gang，HailGaomng’andZhengHongye (毋陴唰ofMtm,no／JSaena}and既印州，易嗍№哆，胁，劝ou，310027，锄硷) Al蜮rad P_,捌C83tmC oxldaluonoftltmntuninaweakacld n02 films，grownby咖c肛aIc plate 80lulaon，僦c11a】黜terlzed们tllX-ray electron 刮hcn∞(XaD)，scanmngmicroscopy(SEM)and suchasoxidmonandoxtdauon its wasstudied．Theresultsshowthat oxldalaonand oxlda— voltage tllne，oil lll直ler voltagelonger photo-catalysm lion of hlm cerdlnicfilms nnprovephoto-catalyslsthe’nQ comlderably KeywordsT102，Ceranncfilms，Micro-arc oxldatlon，Photocatalysis 摘要在弱酸性环境下，采用微弧氧化法在钛基板表面实现了’I．iq陶瓷的制备，并就施加电压和微弧氧化的时间对陶 瓷薄膜的光催化性能进行了研究。结果显示，较高的阳极电压和较长的微弧氧化时间有利于制备光催化性能优良的仉q陶 瓷薄膜。 关键词Ti02陶瓷薄膜微弧氧化光催化 中图分类号：0484 文献标识码：A 文章编号：1672-7126(2005)增．064-(O 近年来，半导体光催化治理环境污染已成为世 统的阳极氧化相比，微弧氧化形成的陶瓷涂层与基 界的一个焦点，由于它具有高光化学转换效率，高稳 体结合牢固、结构致密，具有良好的耐磨损、耐腐蚀、 定性及对各类有机污染物的全谱深度氧化的高包容 耐高温冲击和电绝缘性能【lq]，其工艺对环境无污 性，特别是它可直接利用太阳能进行光化学转换的 染，具有广阔的应用前景。 独特优势，一开始就受到科学家的高度重视。其中 将微弧氧化技术用于钛材表面处理，不仅可提 ’n02由于其良好的化学稳定性，抗磨损性，低成体， 高钛表面的耐磨性，同时抗腐蚀性也有显著提高【4J。 无毒等特点而成为最具应用潜力的光催化剂。研究 本文主要研究了电压与时间参数对采用微弧氧 发现，TlCh薄膜不但具有紫外光照射下分解有机物化法制备的T,Ch陶瓷涂层的光催化性能的影响。 的能力，而且还具有亲水亲油双亲特性。 利用SEM、XRD等测试方法分析了’n02陶瓷层的形 制备7ri02薄膜的方法很多，