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碳热还原-反应烧结法制备多孔氮化硅陶瓷 - 无机材料学报
第28 卷 第5 期 无 机 材 料 学 报 Vol. 28 No. 5
2013 年5 月 Journal of Inorganic Materials May, 2013
文章编号: 1000-324X(2013)05-0469-05 DOI: 10.3724/SP.J.1077.2013.12381
碳热还原-反应烧结法制备多孔氮化硅陶瓷
鲁 元 1,2, 杨建锋 3, 李京龙 1,2
(1. 西北工业大学 凝固技术国家重点实验室, 西安 710072; 2. 西北工业大学 陕西省摩擦焊接重点实验室, 西安
710072; 3. 西安交通大学 金属材料强度国家重点实验室, 西安 710049)
摘 要: 以廉价的二氧化硅、炭黑和硅粉为起始原料, 利用碳热还原– 反应烧结法制备了高气孔率、孔结构均匀的多
孔氮化硅陶瓷, 考察了原料中硅粉含量对多孔氮化硅陶瓷微观组织和力学性能的影响。XRD 分析表明烧结后的试
样成分除了少量的-Si N 相和晶间相 Y Si O N 外, 其余都是 β-Si N 相; SEM 分析显示微观组织由棒状 β-Si N
3 4 2 3 3 4 3 4 3 4
晶粒和均匀的孔组成。通过改变硅粉的含量, 制备了不同气孔率, 力学性能优异的多孔氮化硅陶瓷。
关 键 词: 碳热还原– 反应烧结法; 多孔氮化硅陶瓷; 气孔率
中图分类号: TQ171 文献标识码: A
Fabrication of Porous Silicon Nitride with High Porosity by Carbothermal
Reduction-reaction Bonding
1,2 3 1,2
LU Yuan , YANG Jian-Feng , LI Jing-Long
(1. State Key Laboratory of Solidification Processing, Northwestern Polytechnical University, Xi’an 710072, China; 2. Shaanxi
Key Laboratory of Friction Welding Technologies, Northwestern Polytechnical University, Xi’an 710072, China; 3. State Key
Laboratory for Mechanical Behavior of Materials, Xian Jiaotong University, Xi’an 710049, China)
Abstract: By using
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