材料表面新技术（张友法）第五讲 真空蒸镀-简.pptVIP

电子束加热枪：灯丝+加速电极+偏转磁场 蒸发坩埚：陶瓷坩埚或水冷铜坩埚 环形阴极发射电子束→电场作用下适当偏转并聚焦→加热阳极坩埚中膜料。 环形枪 目前应用最广的电子枪，由电子轨迹磁偏转270°成e形而得名。基本过程：热阴极发射电子→高压电场加速并聚焦→磁场偏转→加热坩埚内膜料。 e形枪 电子枪 和坩埚 基片架 优点： 能量密度可达109W/cm2，温度可达3000-6000℃，可蒸发W、Mo、A12O3等难熔材料，蒸发速率高。 膜料置于坩埚内，坩埚材料污染较轻，可制备高纯膜。 蒸发粒子动能较大，可得牢固致密的膜层。 蒸发物加热面积小，热辐射损失小，热效率高。 缺点： 装置结构复杂，设备较贵，电子轰击可致化合物分解。加速电压过高产生的软X射线对人体有害。 采用高能聚焦激光束作热源来加热蒸镀。蒸发只发生在光斑周围的局部区域，蒸发材料被直接从固体转化为等离子体。主要沉积高熔点材料及Y、Ba、Cu氧化物等超导薄膜。 2.3 激光加热蒸镀 缺点： 蒸发过程有颗粒喷溅，污染膜层； 限于目前激光器输出能量，制备大面积膜有困难； 设备较贵，目前只适于高技术及新材料领域，工业应用少。 优点： 非接触加热，无坩埚污染，宜制备高纯膜； 可多靶顺序蒸发，一次完成多层膜沉积； 能量密度高，可蒸发任何能吸收激光能的材料； 可制备化合物膜； 靶材用量少，适于制备稀有贵重金属薄膜； 沉积原子的