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磁控溅射制备掺银TiO 2 薄膜的光催化特性研究 - 材料工程
T iO2 35
TiO2
Study on Phot ocat aly t ic Pr oper t ies of A g-doped T iO2 T hin Film
by A C M ag net ic Contr ol Sput t er ing M ethod
1 2 1 1 1 1
, , , , ,
1 , 150080;
2 , 100081)
1 2 1
QIU Cheng-jun , CA O M ao- sheng , ZH A N G H u-i jun ,
1 1 1
L IU H ong- mei , T IA N F eng-jun , L IU Xin
1 T he Key L ab of Int eg rated Circuit of H eilongjiang
Universit y, H arbin 150080 , China; 2 School of M at erial Science
and Eng ineering , Beijing Inst it ut e o f T echnolog y, Beijing 100081, China)
: T i T iO 2 , SEM , XRD
T iO2 , T iO2
T iO 2 , T iO 2 , T iO2
: ; ; ;
: T Q134 . 17 : A : 1001- 4381 2005) 10- 0035- 0 3
Abstract: A g- doped T iO2 t hin f ilm w as prepar ed based on silicon subst rate w it h T i as the t ar get by
magnet ic co nt ro l sput tering equipm ent , charact er iz ed by SEM , XR D and absor pt ion spect rum and the
ef fect of doped A g on absor pt ion spect rum of T iO2 t hin f ilm w as discussed. P hot ocat alyt ic pro pert ies
of A g- do ped T iO2 t hin f ilm w ere inv est ig ated by the concent rat
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