材料特性表征学习资料：答案1 材料特性表征 第1篇 组织形貌分析.docVIP

材料特性表征 第一篇 组织形貌分析 作业题 显微镜的分辨本领和数值孔径？光学显微镜的分辨率：样品上相应的两个物点间距离?r。定义为透镜能分辨的最小距离，也就是透镜的分辨本领。 提高分辨率的方法：使用低波长光源，增大介质n值，增大孔径角，提高对比度。光学显微镜数值孔径NA= nsinα是物镜前透镜与被检物体之间介质的折射率（n）和半孔径角（α）的正弦之乘积什么是电子显微分析？电子显微分析的特点是什么？ 电子显微分析的特点：(1) 可以在极高放大倍率下直接观察试样的形貌、结构，选择分析区域。分辨率高：0.2~0.3nm; 放大倍数高：20~30 万倍 (2) 是一种微区分析方法，具有高度分辨率，成像分辨率达到0.2~0.3mm,可直接分辨原子，能进行nm尺度的晶体结构及化学组成分析。(3) 各种电子显微镜分析仪器日益向多功能、综合性方向发展，可以进行形貌、物相、晶体结构和化学组成等的综合分析电子波长由什么决定？电子波波长与电子运动速度的关系：什么是静电透镜和磁透镜？各有什么特点？ 磁透镜：能使电子波聚焦的具有旋转对称非均匀的磁极装置。 电磁透镜的像差有哪几种？ 电磁透镜的像差分成两类第一是因为透镜磁场几何上的缺陷造成的，叫做几何像差，包括球面像差、像散和像畸变。第二是由于电子波长或者能量非单一性而引起的，与多色光相似，叫做色差。电磁透镜的场深？ 电磁透镜的场深或景深在保持象清晰的前提下，试样在物平面上下沿镜轴可移动的距离，或者说试样超越物平面所允许的厚度。 电子的弹性散射有什么特点？用于什么分析？ 简述透射电镜的工作原理。 透射电镜光学成像系统的结构分为哪几部分？ 透射电镜分析有哪些应用？ 简述扫描电镜的各种类型电子枪的性能和特点。 六硼化镧阴极发射率比较高，有效发射截面小（直径约为20 um），亮度和电子束直径等性能都比钨阴极好。 场发射电子枪 利用靠近曲率半径很小的阴极尖端附近的强电场，使阴极尖端发射电子 在样品表面可以获得3-5nm的电子束斑 扫描电镜图像的衬度有哪几种？这几种衬度是如何形成的？ 扫描电镜图像的衬度5-10nm的深度范围，所以表面形貌特征对二次电子的发射系数（也称发射率）有很大影响。在试样表面凸凹不平的部位，入射电子束的作用所产生的二次电子的信号的强度要比在试样表面其他平坦的部分产生的信号强度大，因而形成表面形貌衬度。 背散射电子形貌衬度的形成：同二次电子一样，样品表面的形貌也影响着背散射电子的产率，在α角较大（尖角）处，背散射电子的产率高，在α角较小（平坦）处，背散射电子的产率低，但其分辨率远比二次电子低。 背散射电子成分衬度的形成：如果试样表面存在不均匀的元素分布，则平均原子序数较大的区域将产生强的被散射电子信号，因而在被散射电子像上显示出较亮的衬度；反之平均原子序数较小的区域在被散射电子像上是暗区。 扫描电镜试样有什么要求及如何制备？ 扫描电镜 （1）导电性好，以防止表面积累电荷而影响成像 （2）具有抗热辐照损伤的能力，在高能电子轰击下不分解、变形 （3）具有高的二次电子和背散射电子系数，以保证图像良好的信噪比 对于不能满足上述要求的样品，如陶瓷、玻璃、塑料等绝缘材料，导电性差的半导体材料，热稳定性不好的有机材料和二次电子、背散射电子系数较低的材料，都需要进行镀膜处理。 最常用的镀膜材料是金，在扫描电镜制样技术中最多的是真空蒸发和离子溅射镀膜法。 SEM样品制备大致步骤：1. 从大的样品上确定取样部位；2. 根据需要，确定采用切割还是自由断裂得到表界面；3. 清洗；4. 包埋打磨、刻蚀、喷金处理， 简述扫描电镜的成像原理。 用聚焦电子束在样品表面扫描时激发产生的某些物理信号来调制成像，不用透镜放大成像，类似电视或摄像的方式成像。概括起来就是光栅扫描，逐点成像。 二次电子是怎样产生的？有什么特点？结合图示阐述利用二次电子成像时，表面形貌对二次电子产率的影响。n之间夹角α有如下关系：δ=δ0/cosα式中δ0是物质的二次电子发射系数，是一个与具体物质有关的常数。 可见二次电子的发射系数随α角的增加而增大。二次电子产额δ与二次电子束与试样表面法向夹角有关，δ∝1/cosθ。因为随着θ角增大，入射电子束作用体积更靠近表面层，作用体积内产生的大量自由电子离开表层的机会增多；其次随θ角的增加，总轨迹增长，引起价电子电离的机会增多。在试样表面凸凹不平的部位，入射电子束的作用所产生的二次电子的信号的强度要比在试样表面其他平坦的部分产生的信号强度大，因而形成表面形貌衬度。 阐述扫描电镜景深概念，说明景深与临界分辨本领和电子束入射半角αc的关系。景深是指焦点前后的一个距离范围，该范围内所有物点所成的图像符合分辨率要求，可以成清晰的像。即景深是可以被看清的距离范围。 景深取决