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第 31卷第 2期 红 外 与 毫 米 波 学 报 Vo1.31,No.2
2012年 4月 J.InfraredMillim.Waves April,2012
文章编号 :1001—9014(2012)02—0118—05
石墨烯基红外探测器的高k栅氧集成
周 鹏,魏红强,孙清清,叶 立,陈 琳,吴东平,丁士进,张 卫
(复旦大学 微电子研究院,集成电路与系统国家重点实验室,上海 200433)
摘要:从石墨烯发现与制备 出发,综述 了室温下双层石墨烯或石墨烯带禁带在0~250meV可调的特性,及其在中
远红外探测器的背栅、顶栅结构中作为栅氧形成材料的应用,并介绍了目前各种先进工艺.
关 键 词:石墨烯;红外探测器;高k栅氧集成
中图分类号:TN432 文献标识码 :A
High-kgateoxidesintegration ofgraphenebased infrared detector
ZHOUPeng, WEIHong—Qiang, SUNQing—Qing, YELi, CHENLin,
WU Dong—Ping, DINGShi—Jin, ZHANGWei
(StateKeyLabofASICSystem ,SchoolofMicroelectronics,FudanUniversity,Shanghai 200433,China)
Abstract:Thisreview givesanintroduction tothediscoveryandfabrication ofthegraphene,back—gatedandtop—gated
GFETwiththepossibletunableband—gapof0—。250meV atroom temperatureformiddleandfarinfrraeddetectorapplica—
tion,radiorfequencyGFETapplicationnadotheradvancedhighkgateoxidesintegrationprocesses. (人Q墨)_喜∞日磊∞
Keywords:rgaphene;inrfareddetector;high—kintegration
PACS:73.22.Pr,74.25.Gz
引言
石墨烯基场效应晶体管由于石墨烯卓越的电子
迁移率特性、平面可集成等优点而得到广泛的关注,
是实现极低功耗、极高灵敏、超轻超稳定、无需低温
控制红外探测器的极具魅力之方法.但单层石墨烯
不具备禁带、双层石墨烯形成结构后迁移率的急剧
衰退、栅氧形成工艺缺乏等问题限制了其发展与应
用.集成 电路 中最基础 的器件是场效应 晶体管
(FieldEffectTransistor,FET),而利用石墨烯实现晶 D/(Vnay)
体管特性面临的一个挑战是硅晶体具有 2.1eV带
图1 双层石墨烯可调禁带宽度对电场依赖关系
隙,这与石墨烯不同,石墨烯不存在带隙.石墨烯在
Fig.1 Theelectricfielddependenceofbilayerrgaphenetuna—
单层状态下具备金属特性 ,理论分析及实验测量显 blebandgap
示在双层化后 目前出现最大带隙约为 250meV,具
备半导体特性….如果把双层石墨烯加工成细线 (纳 采用双层石墨烯利用外加电场可以在室温下控
米带)状,带隙还能进一步扩大.IBM 已发布了栅长 制其打开禁带,从0~250meV可调 。4。,如图1所示.
240nm、截止频率为230GHz的石墨烯 FET J. 显然,在不同偏置电压控制下可调禁带的GFET可以
收稿 日期:2011-02—24,修
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