近红外mems闪耀光栅的设计与制作 - 西南大学.pdf

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近红外mems闪耀光栅的设计与制作 - 西南大学

( ) 第 卷第 期 西 南 大 学 学报 自然科学版 年 月 39 6 2017 6 ( ) Vol.39 No.6 JournalofSouthwestUniversit NaturalScienceEdition Jun. 2017 y : / DOI 10.13718 .cnki.xdzk.2017.06.027 j 近红外MEMS闪耀光栅的设计与制作① , 聂 秋 玉12 , ; , 1.西南大学 电子信息工程学院 重庆 400715 2.重庆大学 微系统研究中心 重庆 400044 : , ( ) , 、 摘要 利用硅的各向异性湿法腐蚀性质 在偏晶向 111硅基底材料上 设计并制作了闪耀角为8° 周期为4 m μ , 的近红外闪耀光栅 设计时考虑了光栅顶部平台对光栅衍射效率的影响 修正了光栅的闪耀角 制作时利用一次 . . , , ( ) 性氧化削尖的方法 减少光栅顶部平台的宽度 以提高光栅的衍射效率 利用扫描电子显微镜 进行光栅形 . SEM , : , 貌测试 结果表明 制作的光栅具有平滑的光学表面和良好的光栅槽形 对光栅进行衍射效率测量 当入射波长为 . , , , 1392nm时 衍射效率能达到 70%以上 表明光栅具有很高的衍射效率 能满足微型近红外光谱仪的使用要求. : ; ; ; 关 键 词 闪耀光栅 微机电系统 湿法各向异性刻蚀 近红外 中图分类号: 文献标志码: 文章编号: ( ) TN305.7 A 1673 9868201706 0172 07 、 、 、 、 、 近红外光谱分析技术在现代农牧业 食品安全 生物医药 石油化工 环境监测 航空航天等领域都有 [ ] 1-5 , 、

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