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光刻胶光学性质的光谱椭偏测量方法研究 - 计量学报
第32卷 第4期 计 量 学 报 Vol.32,№4
2011年 7月 ACTA METROLOGICA SINICA July,2011
doi:10.3969/j.issn.10001158.2011.04.20
光刻胶光学性质的光谱椭偏测量方法研究
1 1 2 1 1 1
刘文德 , 陈 赤 , 陈 熙 , 于 靖 , 郑春弟 , 王 煜
(1中国计量科学研究院,北京 100013;
2中国科学院 半导体研究所纳米光电子实验室,北京 100083)
摘要:利用相调制型光谱椭偏仪研究了光刻胶光学常数的测量方法,针对测量过程中光刻胶曝光控制优化了
测量方案和仪器参数。对常见的S9912正型光刻胶,给出了曝光前后275~650nm波段的光学常数。并采用动态
椭偏法测量了所需波长下曝光前的光学常数。实验结果表明:该测量方法适用于光刻胶在紫外可见红外宽波段
的光学性质研究,在光刻模拟、新型光刻胶材料研制及其光学性质表征等领域有重要实用价值。
关键词:计量学;光刻胶;曝光;光学常数;光谱椭偏法
中图分类号:TB96 文献标识码:A 文章编号:10001158(2011)04038104
StudyonMeasuringMethodofOpticalCharacteristicsof
PhotoresistbySpectroscopicEllipsometry
1 1 2 1 1 1
LIUWende, CHENChi, CHENXi, YUJing, ZHENGChundi, WANGYu
(1NationalInstituteofMetrology,Beijing100013,China;
2LaboratoryofNanoOptoelectronics,InstituteofSemiconductors,ChineseAcademyofSciences,Beijing100083,China)
Abstract:Bymeansofphasemodulatedellipsometer,themethodformeasuringopticalconstantsofphotoresistis
describedThetestschemeandinstrumentparametersfortestingprocessofphotoresistareoptimizedForcommonlyused
positiveS9912photoresist,theopticalconstantsfor275~650nmbefore/aftertheexposurearemeasured,andthedynamic
ellipsometryisusedtoobtainthevaluesbeforetheexposureatwavelengthsofinterestTheexperimentalresultsindicate:the
methodprovidedisapplicablefortheresearchofphotoresistinUVVISNIRspectralrangeandmayfindimportant
applicationintheopticallithographysimulation,thedevelopmentandcharacterizationofnewtypephotoresistmaterials
Keywords:Metrology;Photoresist;Exposure;Opticalconstants;Spectroscopice
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