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* . * * . * 俄歇电子产额 俄歇电子和X荧光产生几率是互相关联和竞争的,对于K型跃迁: 俄歇电子产额随原子序数的变化如图。 对于Z?14的元素,采用KLL电子来鉴定; 对于Z14的元素,采用LMM电子较合适; 对于Z?42的元素,选用MNN和MNO电子为佳。 * . * * . * 俄歇电子能量 俄歇电子的动能可通过X射线能级来估算,如KLⅠLⅡ俄歇电子的能量为 ,但这种表示并不严格,因为LⅠ、LⅡ都是指单电离状态的能量,发生俄歇跃迁后原子的状态是双重电离的,当LⅠ电子不在时, LⅡ电子的结合能自然要增加。一般地,对于凝聚态物质,俄歇电子的能量应为: * . * 俄歇电子的逸出深度:1~10? 俄歇电子峰的宽度:取决于自然宽度和跃迁时所涉及到的能级本身的宽度,一般从几个电子伏特到10电子伏特以上。 * . * AES与XPS的比较 XPS AES 鉴别种类与灵敏度 强 强 空间分辨率 弱 强 表面无损度 强 弱 定量分析 强 弱 化学位移 强 弱 分析速度 弱 强 * . * 14.4 扫描隧道显微镜(STM)和原子力显微镜(AFM) * . * 一、引言 1981年,Bining和Rohrer发明扫描隧道显微镜(Scanning Tunnelling Microscope-STM),1986年获诺贝尔奖; 随后,相继出现了许多与STM技术相似的新型扫描探针显微镜,如Binning,Quate和Gerber在STM的基础上发明了原子力显微镜(AFM); 扫描探针显微镜简称SPM,它不采用物镜来成象,而是利用尖锐的传感器探针在表面上方扫描来检测样品表面的一些性质; * . * 不同类型的SPM主要是针尖特性及其相应针尖-样品间相互作用的不同,包括: 扫描探针显微镜(STM) 原子力显微镜(AFM) 摩擦力显微镜(LFM) 磁力显微镜(MFM) 扫描近场光学显微镜(SNOM) 弹道电子发射显微镜(BEEM) * . * SPM对样品表面各类微观起伏特别敏感,即具有优异的纵向分辨本领,其横向分辨率也优于透射电镜及场离子显微镜。各种显微镜的主要性能指标如下表: * . * 显微镜类 型 分辨本领 工作条件 工作温度 样品损伤 分析深度 人眼 0.2mm 光学显微镜 0.2?m SEM(二次电子) 横向:6nm 高真空 低温、室温、高温 轻微损伤 1?m 纵向:较低 TEM 横向:点3~5 ?,线1~2 ? 高真空 低温、室温、高温 中等程度损伤 1000 ? (样品厚度) 纵向:很差 FIM 横向:2 ? 超高真空 30~80K 严重损伤 1个原子层 STM 横向:1 ? 空气、溶液、真空 低温、室温、高温 无损伤 1~2个原子层 纵向:0.1 ? * . * 二、扫描隧道显微镜(STM) * . * 基本原理 STM的理论基础是隧道效应。对于一种金属-绝缘体-金属(MIM)结构,当绝缘层足够薄时,就可以发生隧道效应。隧道电流I是电极距离和所包含的电子态的函数。 * . * STM就是根据上述原理而设计的。工作时,首先在被观察样品和针尖之间施加一个电压,调整二者之间的距离使之产生隧道电流,隧道电流表征样品表面和针尖处原子的电子波重叠程度,在一定程度上反映样品表面的高低起伏轮廓。 * . * STM工作模式 恒电流模式(CCI):当针尖在表面扫描时,反馈电流会调节针尖与表面的高度,使得在针尖与样品之间的隧道电流守恒。它是目前应用最广最重要的一种方式,一般用于样品表面起伏较大时,如进行组织结构分析时。其缺点在于反馈电路的反应时间是一定的,这就限制了扫描速度与数据采集时间。 * . * 恒高度模式(CHI):针尖在表面扫描,直接探测隧道电流,再将其转化为表面形状的图象。它仅适用于表面非常平滑的材料。 * . * STM 恒流模式 点击“ZOOM”查看细节 右键点击视频外选择退出 * . * STM 恒高模式 点击“ZOOM”查看细节 右键点击视频外选择退出 * . * STM应用 STM的主要功能是在原子级水平上分析表面形貌和电子态,后者包括表面能级性质、表面态密分布、表面电荷密度分布和能量分布。主要应用领域: 表征催化剂表面结构; 人工制造亚微米和纳米级表面立体结构; 研究高聚物; 研究生物学和医学; 原位研究电化学电积; 研究碳、石墨等表面结构; 研究半导体表面、界面效应及电子现象; 研究高温超导体; 研究材料中的新结构和新效应。 * . * 三、原子力显微镜(AFM) * . * 基本原理 AFM是使用一个一端固定而另一端装有针尖的弹性微悬臂来检测样品表面形貌的。当样品在针尖下面扫描时,同距离有关的针尖-样品相互作用力(既可能是吸引的,也可能是排斥的),就会引起
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