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第 25卷 第 3期 甘 肃科 学 学报 V0L25 NO．3 2013年 9月 Journa1ofGansuSciences Sep．2013 Photo—Fenton高级氧化技术处理土霉素废水的研究 苟世霞 ，王春荣 ，于晓华 ，田 盛。，马友千。 (1．中国矿业大学 (北京)化学与环境工程学 院，北京 100083；2．北京交通大学 土木与建筑工程学院，北京 100044； 3．哈尔滨辰能工大环保科技股份有限公司，黑龙江 哈尔滨 150078) 摘 要 ： 以内蒙某土霉素制药厂的二级 出水为研究对象 (COD。约为400mg／L)，采用 uV ／Fen— ton高级氧化技术对其进行深度处理．研 究 了光 强、PH 值 、H。O 的投加量 以及 H。O 与 Fe 的摩 尔比值对 COD 去除率的影响．结果表 明：处理土霉素废水的最佳条件是光强为 850~tw／cm ，废水 初始 pH 为3，H2O2与 Fe 的摩 尔比值为 1：1，H2O2的投加量为 400mg／L，反应时间为 60min， 此时 CoD 为 113．6mg／L，去除率为 71．6 ． 关键词 ： 土霉素废水；Fenton试剂；UV254 中图分类号 ： X703．1 文献标志码 ： A 文章编号 ：1004—0366(2013)03—0043—04 DegradationofoxytetracyclineW astewaterUsing Photo—FentonAdvancedOxidation Technology G0U Shi～xia ，W ANG Chun—rong ，YU Xiao—hua ，TIAN Sheng。，MA You—qian。 (1．SchoolofChemicalandEnvironmentalEngineering，ChinaUniversityofMiningTechnology，Beijing100083，China； 2．SchooloJ’CivilandArchitecturalEngineering，BeijingJiaotongUniversity，Beijing100044，China； 3．HITEnvironmentalTechnologyCo．，LTD ，Harbin150078，China) Abstract： TheoxytetracyclinewastewaterofapharmaceuticalindustryintheInnerMongoliawasstudied andtreated(COD。approximately400mg／L)byUV254／FentonAdvancedOxidationtechnology．Theeffect oflightintensity，thepH value，theratioofH2O2／Fe抖 ，theconcentrationofH2O2andthereactiontimeon COD removalratewereinvestigated．Theresultsshowedthat：thebestconditionsfortreatmentwasthe lightintensitywas850~w／cm ，thepH valuewas3，theratioofH2O2／Fe was1：1，theconcentrationof H2O2was400mg／Landthereactiontimewas60rains，andatthattimetheCOD was113．6mg／L，there— movalratewas71．6 ． Keywords： oxytetracyc1inewastewater；Fenton reagent；UV254 土霉素生产废水 的pH波动大、色度高、气味重 ， 物工艺处理的二级出水为研究对象 ，优化出最佳工艺 属较难处理的废水口]．目前处理抗生素类废水一般采 参数，讨论各因素对处理效果的影响，为该技术应用 用常规的厌氧一好氧