动态离子束混合技术制备氧化铬薄膜的x射线光电子能谱与俄歇电子能谱研究 xps and aes analyses of chromium oxide films prepared by ion-beam assisted deposition.pdfVIP

第30卷第5期 核 技 术 Vbl．30．No．5 2007年5月 NUCLEAR TECHNIQUES May2007 动态离子束混合技术制备氧化铬薄膜的X射线 光电子能谱与俄歇电子能谱研究 代海洋王治安黄宁康 (辐射物理和技术教育部重点实验室四川大学原子核科学技术研究所成都610064) 摘要本文介绍的动态离子束混合技术制备氧化铬薄膜系在不锈钢基体上进行1kev氩离子束溅射沉积铬(同 时通入一定量的0)，并用100k6V的氩离子束或氧离子束轰击该样品。对两种离子束轰击形成的氧化铬薄膜 elec廿on 进行了x射线光电子能谱(x．rayphotoelec廿onspec昀scopy’xPs)和俄歇电子能谱(Augerspec廿oscopy’ AES)的分析研究。发现Ar+离子束制备的氧化铬薄膜主要是Cr203化合物，而O+离子束制备的氧化铬薄膜 含有其它价态的铬氧化物。Ar+离子束制备氧化铬薄膜的污染碳少于o+离子束制备。与O+离子束制备相比 较，相同能量的Ar+离子束轰击更有利于提高沉积的Cr原子与周围02的反应性；Ar+离子束制备的氧化铬薄 膜过渡层的厚l／3左右，较厚的过渡层显示了制备的薄膜具有较好的附着力。 关键词氧化铬薄膜，动态离子束混合技术，x射线光电子能谱，俄歇电子能谱 中图分类号0484．1，0484．5 Cr203硬度可达30GPa，摩擦系数小，熔点高高能量的离子束轰击会产生反冲注入效应、级联碰 (约2300cC)，因此耐磨蚀能力强，而且内应力较撞效应、热峰效应、以及各种损伤导致的原子间辐 小，可沉积较厚的膜层【1．2J。由于上述优点，Cr203射增强扩散效应，从而在薄膜一基体间形成一个增强 可用作数字磁头记录读写头保护层【2】，并应用于气 的固溶态过渡层，或谓伪扩散层，使薄膜对基体附 体轴承【l】、汽车的气缸内壁等。cr203不溶于酸、碱、着性增强‘51。 盐等溶剂，对光、大气及腐蚀性气体(S02，H：s等) 具有化学配比的Cr20，薄膜硬度最高，其他价 极为稳定，因而Cr203薄膜具有较高的抗氧化和耐态的铬会导致Cr20。薄膜硬度降低，也会影响薄膜 腐蚀性能，是高温氧化物中耐蚀性最好的氧化物之 的其他性能。因此制备组元高纯而均匀致密的 一；Cr203还具有特有的光学性能，可用作太阳能 薄膜，就显得特别重要。采用动态离子束混合技术 吸收材料【31以及照相平板印刷的模版【31等。Cr203薄 制备cr203薄膜的研究，尚未见报道。本文用氩或 膜的应用前景广泛，但与过渡金属氮化物相比， 氧离子的动态离子束混合制备氧化铬薄膜，通过样 Cr203的主要缺点是附着性差、韧性低【4】，这就大大 品的xPS和AEs分析，研究不同离子轰击对沉积 妨碍了它的应用。 薄膜的影响。 近年来经常使用物理气相沉积(Physicalv印or deposition，PVD)、化学气相沉积(chernicalv印or 1试验方法 deposition，cVD)、溅射沉积、离子束增强沉积(Ion be锄enhaIlced 基体为2Crl3不锈钢，先抛光、作苯溶液超声 deposition，mED)等方法制备各种功 能薄膜。动态离子束混合技术是一种物理气相沉积 波处理以去除油污，再经丙酮超声波清洗、去离子 技术和离子注入相结合的薄膜制备技术，在由蒸镀 水洗净，烘干备用。动态