200mmx200mm OLED步进投影曝光机 Projective Stepper for 200 mmx200 mm OLED Process.pdfVIP

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2017-08-03 发布于上海
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200mmx200mm OLED步进投影曝光机 Projective Stepper for 200 mmx200 mm OLED Process.pdf

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鱼蚕耋团 200mmX200mmOLED步进投影曝光机周畅 1，李喜峰 (1．上海微电子装备有限公司，上海201203； 2．上海大学新型显示技术及应用集成教育部重点实验室，上海201900) 摘要：有机发光二极管(OLED)尤其是AMOLED 由于其独特的性能．其可能成为下一代显示技术。目前AMOLED显示还未达到量产之前．200mm×200mm 的研发线对于AMOLED技术工艺验证尤为重要。AMOLED对 TFT曝光的要求(CD均匀性、套刻精度等)较 TFT—LCD高。基于此，介绍了可用于OLED研发要求的步进投影曝光机 SSB200／10A。实测数据及显示器件成功开发表明该设备能够很好地满足AMOLED工艺要求。关键词：有机发光二极管(OLED)显示；曝光机；关键尺寸(CD)；套刻(Overlay) 中图分类号：1N~305．7 文献标识码：B 文章编号：1004—4507(2012)03．0012—06 ProjectiveStepperfor200mmx200mm OLEDProcess ZHOU Chang，LIXifeng2 (1．ShanghaiMicroElectronicsEquipmentCO．Shanhgai201203，China； 2．LTD．ShanghaiUniversity，Shanghai201900，China) Abstract：Itisan undoubted仃end forOLED，especially AMOLED，asthenextgeneration and potentialdisplaytechnology．SinceproducibleorprofitableAMOLED processhasnotbeenmastered bymostdisplaymanufacturer；200mm ×200mm pilotlineisveryimportantandcost—efficientofr processresearchanddevelopment．AndAMOLEDprocessrequiretihgterCDandOverlayofrTFT exposurethanTFT-LeD．ThispaperintroducesanoveltypeofProjectivestepper，SSB200／10A，ofr TFTprocedureofAMOLEDpilotline，whichistotallydifferentfromproximiytexposuretoolcalled aligner．FurthermoretestingdataanddisplaydeviceshowtheprojectivestepperCna meetwellwith requirementofAM OLED process． Keywords：Organiclihgt—emittingdiode(OLED)display；Stepper；Criticaldimension(CD)；Overlay AMOLED (Activemat— rixorganiclight—emitting diode)具有自发光、更薄更轻、无视角问题、高清收稿日期：2012—02．17 万方数据 - 电子工业专用设备先进光刻技术与设备晰、高亮度、响应快速、能耗低、使用温度范围广、发线对光刻的要求。抗震能力强、成本低的优点，有可能成为取代 TFT．LCD 的下一代显示技术。目前日本、韩国、中 1 oLED步进投影曝光