低温共烧陶瓷多层基板精细互连技术 fine interconnection technologies for multilayer ltcc substrates.pdfVIP

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低温共烧陶瓷多层基板精细互连技术 fine interconnection technologies for multilayer ltcc substrates

低温共烧陶瓷多层基板精细互连技术 徐志春,成立,李俊,韩庆福,张慧,刘德林 (江苏大学电气与信息工程学院,江苏镇江212013) 摘要:微电子技术和封装工艺的发展使超大规模集成电路(vLSI)的密度越来越高,而高密 度低温共烧陶瓷(LTCC)基板的制作依赖于基板内部导体的精细互连技术。为了满足LTCc多层 基板高密度互连的工艺要求,必须使基板微通孔的直径及导线线宽缩小到100肚m以内。基于此, 首先介绍了1月CC生瓷带层的微通孔形成与填充工艺,以及所形成的微通孔的特点;利用厚膜丝 网印刷技术形成精细导线,分析了影响印刷质量的工艺参数;最后简要介绍了薄膜光刻等新技 术。通过应用上述几种先进的精细互连工艺技术,极大地提高了LTCC多层基板的互连密度。 关键词:高密度互连;低温共烧陶瓷;微通孔;通孔填充;丝网印刷 中图分类号:删.97;rIN405.9r7文献标识码:A Fine for Interconnection LTCCSubstrates Technolo酉esMllltilayer XU De一1in zhi-chun,CHENGLi,UJun,HAN Hui,UU Qing-fu,ZHANG (凰妇蹴矿踟妇毋口谢而锄磁加,胁增s拄渤觇糟蠡y,铂e咖增212013,醌池) Abst阳ct:Withthe ofH1icroelectronicsaIld circuitdensities development packagingtechnolo舀es,VLSI a of low co一矗red on increase10t.7rhe£abrication eemfllic(L1陀C)substra£es densitytenlperature depends high thefineinterconnectionoftheconductor.Inorderto meetthe of technology Tequirementhighdensity interconnectionsofIJTCC thesizeofviaaIld oftheconductormustbe substmtes, multilayer line/spacing of foHIlation reducedunder IIlicm—Via a11dⅡlicm—viafill,andthe characteristic 100弘m.Thepmcess irnportant ofIIlicm-viawereintmduced.Thenthescreen 0ffineconductorwas printingtechnology some which“玷ctedt}Ie of conductor. new as processpammeters quality

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