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低温共烧陶瓷多层基板精细互连技术 fine interconnection technologies for multilayer ltcc substrates
低温共烧陶瓷多层基板精细互连技术
徐志春,成立,李俊,韩庆福,张慧,刘德林
(江苏大学电气与信息工程学院,江苏镇江212013)
摘要:微电子技术和封装工艺的发展使超大规模集成电路(vLSI)的密度越来越高,而高密
度低温共烧陶瓷(LTCC)基板的制作依赖于基板内部导体的精细互连技术。为了满足LTCc多层
基板高密度互连的工艺要求,必须使基板微通孔的直径及导线线宽缩小到100肚m以内。基于此,
首先介绍了1月CC生瓷带层的微通孔形成与填充工艺,以及所形成的微通孔的特点;利用厚膜丝
网印刷技术形成精细导线,分析了影响印刷质量的工艺参数;最后简要介绍了薄膜光刻等新技
术。通过应用上述几种先进的精细互连工艺技术,极大地提高了LTCC多层基板的互连密度。
关键词:高密度互连;低温共烧陶瓷;微通孔;通孔填充;丝网印刷
中图分类号:删.97;rIN405.9r7文献标识码:A
Fine for
Interconnection LTCCSubstrates
Technolo酉esMllltilayer
XU De一1in
zhi-chun,CHENGLi,UJun,HAN Hui,UU
Qing-fu,ZHANG
(凰妇蹴矿踟妇毋口谢而锄磁加,胁增s拄渤觇糟蠡y,铂e咖增212013,醌池)
Abst阳ct:Withthe ofH1icroelectronicsaIld circuitdensities
development packagingtechnolo舀es,VLSI
a of low co一矗red on
increase10t.7rhe£abrication eemfllic(L1陀C)substra£es
densitytenlperature depends
high
thefineinterconnectionoftheconductor.Inorderto meetthe of
technology Tequirementhighdensity
interconnectionsofIJTCC thesizeofviaaIld oftheconductormustbe
substmtes,
multilayer line/spacing
of foHIlation
reducedunder IIlicm—Via a11dⅡlicm—viafill,andthe characteristic
100弘m.Thepmcess irnportant
ofIIlicm-viawereintmduced.Thenthescreen 0ffineconductorwas
printingtechnology
some which“玷ctedt}Ie of conductor. new as
processpammeters quality
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