多孔钛基氢氧化锰电极的制备及电容特性 fabrication and capacitive characteristics of a porous timn(oh)2 electrode.pdfVIP

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多孔钛基氢氧化锰电极的制备及电容特性 fabrication and capacitive characteristics of a porous timn(oh)2 electrode

删国■叵圜山里整筮至 多孔钛基氢氧化锰电极的制备及电容特性 徐国荣·,彭满芝,唐安平,吴海江 (湖南科技大学化学化工学院,理论化学与分子模拟省部共建教育部重点实验室 分子构效关系湖南省普通高等学校重点实验室,湖南湘潭411201) 摘要:用电化学方法制备了一种多孔钛基氢氯化锰膜电极。钛片在热的盐酸中刻蚀20 mIn。然后在刻蚀的钛基体上阴极 电沉积一层氢氧化锰。用扫描电镜仪、X射线粉末衍射仪分别考察了氢氧化锰膜电极的形貌、晶体结构特征。用循环伏 安法和充放电曲线法测试氢氧化锰膜电极的电化学性能。结果表明,腐蚀后的钛基体呈现多孔特征。孔径大小在微米级 范围。沉积的氯氧化锰呈现纳米片状结构。并相互交错成花状形貌。充放电曲线法测得氢氧化锰膜电极的质量比电容达 340 F内.比普通钛基氢氧化锰膜电极高出28%。循环稳定性测试表明200次循环后,多孔钛基氢氧化锰膜电极比电容 只下降7%。而在后续循环扫描过程中容量保持非常稳定。多孔钛基氢氧化锰膜电极是一种有潜力的电化学电容器电 极。 关键词:电化学电容器;氢氧化锰;电沉积;多孔钛 53 中图分类号:TM 文献标识码:A 文章编号:1002—087 X(2013)09—1559一03 Fabricationand ofa charact耐s邱s c印aCitive porousTi/M【l(OH)2 eleC缸.ode )(U PENG M蛆-出,TANG Guo.啪n An.ping,、砌Hai-j沁g (:酾fa60删5口眵o,强∞卿耙时C斑扭纽≯胁dM出娥£k踟幽如nofM函鲫o,E幽硼跏舶d烛m锄胁曲c岛Hlm舶m痢cec(J姆 Key of凸册括臼y册d TkhnoJ0昌弘Ⅺang纽l hb0咖ofQ鲋R—QSPR,SchooJC舟伽iG酊Eng面eemlg,H唧栅L抽jV8耐钞o,Sc耙nce锄d 胁嘲4JJ20J,西妇) Abst随ct:AⅪndof eIectrodew觞鼬rj∞tedelectnDchemjcalm酣od. m醐gan鹊ehydnDxide by poro岭11-supported TheTielectrodewasetchedhatcOncentrated then fiImwaseIectro by hydrochIoncacid,and hydroxide manganese OnTisubst陋teundera mOde.The strLJctu陷ofthe deposited patemiOst猷ic surfa∞mO币hOIogi髓andcrystaI eI∞tnDdewe怕charactenzedSEM The o

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