直流磁控溅射镀膜与膜表征.ppt

直流磁控溅射镀膜与膜表征 重庆工学院 材料科学实验室 实验性质与对象 1、性质：综合性实验 2、学时数：8学时 3、对象：材料工程、表面工程方向 4、注意事项：服从实验老师安排，依照操作规程、细致地开展试验步骤 实验报告评分细则 实验报告处理 实验报告原则上实验结束后的一周内上交。 ＊注意：因旷课原因未做实验，后果自负。 　　　　 除旷课以外的其他非人为原因未做实验者，请实验结束后的2个工作日内与实验老师联系，再安排补做。否则后果自负。 实验目的 1、了解真空技术的基本知识及磁控溅射镀膜仪的原理、基本构造和使用方法 2、了解磁控溅射设备镀膜的操作过程，学会控制溅射过程的各种参数，以达到所要求的镀膜效果。 3. 测定薄膜的粗糙度，观察分析薄膜的形貌。 实验内容 一、使用直流磁控溅射仪镀膜 二、膜表征 （1）扫描电镜 （2）钠米划痕仪测应力 （3）粗糙度仪测试薄膜的粗糙度 直流磁控溅射镀膜——原理 一、溅射镀膜 　　利用带电离子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子定向引导到欲被溅射的靶材上。当入射离子的能量超过一定阀值后，在入射离子与靶材表面原子碰撞的过程中将后者溅射出来。这些被溅射出来的原子或离子带有一定的动能，并沿着一定的方向射向衬底，最终降落在衬底表面并发生能量交换和表面反应，从而实现靶材原子在衬底上的沉积。 直流磁控溅射镀膜——原理 二、磁控溅射镀膜 　　磁控溅射则在靶材（阴极）区增加一个与电场方向垂直的磁场，将电子的轨迹控制在靶表面附近，提高电子与惰性气体分子碰撞的机会进而提高溅射的效率。磁控溅射的效率通常比其它溅射方法高一个数量级。 实验设备、器材 FJL560Ａ型超真空磁控与离子束联合溅射设备 KQ118型超声波清洗器 蒸馏水 无水乙醇（分析纯） JSM-6460LV型扫描电子显微镜 纳米划痕仪 靶材 衬底 TR200型手持式粗糙度仪 秒表 实验流程 一、磁控溅射镀膜流程 实验流程 二、薄膜的表征 薄膜沉积工艺过程 镀膜程序 第一，准备靶材、试样和检查电路气路，关闭真空腔。 第二，开磁控溅射镀膜仪。首先，用机械泵对系统进行抽气，当热偶计的示数到20Pa的时候，打开G阀，再打开分子泵的电源，用分子泵进行抽气，然后观察真空度的变化，直至达到所需的本底真空度。之后调节气体流量计至所需流量，旋转G阀调节工作真空度，开始溅射镀膜。 第三，镀膜完成后，依次关闭电源、气体流量、真空系统和冷却水系统。 思考题 机械泵的极限真空度是如何产生的？能否克服？ 进行真空磁控溅射镀膜为什么要求一定的真空度？ 为了使膜层比较牢固，应对基片进行怎样处理？ * * 15% 思考题 结果讨论与分析 30%（数据处理含误差估算） 实验参数记录与数据处理 20%（详实） 50% 实验操作步骤 （全部） 10% 实验设备、器材 原理图及必要的文字说明15% 实验原理 5% 实验目的 5% 35% 实验名称 备 注 分值比例 项目 扫描电子显微镜观察薄膜的形貌 粗糙度仪测试薄膜的粗糙度 纳米划痕仪测试薄膜 *