制电路工业中的光化学反应.docVIP

??印制电路工业中的光化学反应 【概??述】在印制电路工业的生产中，有较多的光化学反应，其机理各不相同。本文特将其进行综述与比较，以助业内人士能更好的了解其本质与生产中的注意要点。【关健词】光化学反应?? 光引发?? 曝光 一、黑菲林 ????黑菲林是用涂有光敏乳化剂的塑料制成的，这种乳化剂靠在明胶溶液中悬浮稀薄而分散的溴化银做成。乳化剂涂在聚酯薄膜（厚度一般为7mil）上进行干燥，因而这一面被称为药膜面。故在下面的操作中应特别注意：不要划伤底片药膜；而溴化银对红色光不敏感，其使用与保存必须在红光或避光下进行。溴化银光敏乳化剂可以通过加入各种化合物，来获得特殊的光敏性或者说特殊的光谱特性。然而基本的光化学过程仍然是AgBr的光化学反应。 ????黑菲林在接受激光的照射曝光后，形成肉眼看不见的银的潜像。接着显影，即将软片用对苯二酚或草酸亚铁一类还原剂进行处理，还原剂进一步将溴化银转化成银，潜像起了还原催化剂的作用，因此在有潜像的地方生成银，显影从而起了一种放大作用。显影的时间生产底版的光密度（俗称黑度）和反差。时间短，光密度和反差均不够；时间过长，灰雾加重；如果显影时间太长，所有的溴化银都会转化，图像因此将会消失。 ????最后软片要定影和水洗：即在软片上剩下的AgBr被硫代硫酸钠等溶液解掉，于是在软片的曝光部分留下与曝光量成正比沉积的银的影像。定影时间不够，则生产底版色不够透明；如水洗时间不够，生产底版易变黄。 ????整个的反应方程式为： 二、红菲林 ????红菲林的制作与黑菲林类似，它是将内含重氮盐光敏物质的乳化剂涂在聚酯薄膜（厚度一般也是7mil）上进行干燥。重氮盐在紫外光（波长一般在350-450nm之间）的照射下分解，未曝光的部分在与热氨气接触后被中和掉。重氮盐光敏物质对黄色光不敏感，故其生产与操作都必须在黄光下进行。 ????其反应方程式为： 三、干膜光致抗蚀剂 ????干膜光致抗蚀剂由聚酯薄膜，光致抗蚀剂膜及聚乙烯保护膜三部分组成。聚酯薄膜是支撑感光胶层的载体，使之涂布成膜，厚度通常为25μm左右。聚酯薄膜在曝光之后显影之前除去，防止曝光时氧气向抗蚀剂层扩散，破坏游离基，引起感光度下降。聚乙烯膜是复盖在感光胶层上的保护膜，防止灰尘等污物粘污干膜，避免在卷膜时，每层抗蚀剂膜之间相互粘连。聚乙烯膜一般厚度为25μm左右。光致抗蚀剂膜为干膜的主体，其厚度视其用途不同，有若干种规格，薄的可能十几个微米，最厚的可达100μm。干膜光致抗蚀剂的制作是先把预先配制好的感光胶在高清洁度的条件下，在高精度的涂布机上涂覆于聚酯薄膜上，经烘道干燥并冷却后，覆上聚乙烯保护膜，卷绕在一个辊芯上。 ????我国大量用于生产的是全水溶性干膜，所以这里介绍的是全水溶性干膜感光胶层的组成。多元醇烯酸酯类及甲基丙烯酸酯类是广泛应用的聚合单体，常用的有季戊四醇三丙烯酸酯、三羟基甲基丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯等，还可用甲基丙烯酸羟乙酯、丙烯酸异冰片酯等低粘度单体。光引发剂常用安息香又甲醚、硫杂蒽酮等，取代蒽醌和907等。光引发剂吸收紫外光的能量产生游离基，而游离基进一步引发光聚合单体交联生成体型聚合物，感光部分不溶于显影液，而未曝光部分通过显影除去，从而形成抗蚀图像。在紫外光线照射下，任何一种干膜都有其自身特有的光谱吸收曲线，而任何一种光源也都有其自身的发射光谱曲线。如果某种干膜的光谱吸收主峰能与某种光源的光谱发射主峰相重叠或大部分重叠，则两都匹配良好，曝光效果最佳。 ????正确控制曝光时间是得到优良的干膜抗蚀图像非常重要的因素。当曝光不足时，由于单体聚合的不彻底，在显影过程中，胶膜溶涨变软，线条不清晰，色泽暗淡，甚至脱胶，在电镀前处理或电镀过程中，膜起翘、渗镀、甚至脱落。当曝光过头时，会造成难于显影，胶膜发脆、留下残胶等弊病。更为严重的是不正确的曝光将产生图像线宽的偏差，干膜的光谱吸收区为310-440nm。从几种光源的光谱能量分布可看出，镝灯、高压汞灯、碘镓灯在310-440nm波长范围均有较大的相对辐射强度是干膜曝光较理想的光源。氙灯不适应于干膜的曝光。 ????水溶性干膜的显影液为0.8-1.2%的无水碳酸钠溶液，液温28-32℃，显影机理是感光膜中未曝光部分的活性基团与稀碱溶液反应生成可溶物质而溶解下来，显影时活性基团羧基??—COOH与无水碳酸钠溶液中的Na+作用，生成亲水性集团—COONa。从而把未曝光的部分溶解下来，而曝光部分的干膜不被溶胀。显影操作一般在显影机中进行，控制好显影液的温度，传送速度，喷淋压力等显影参数，能够得到好的显影效果。正确的显影时间通过显出点（没有曝光的干膜从印制板上被显掉之点）来确定，显出点必须保持在显影段总长度的一个恒定百分比上。如果显出点离显影剧院段出口太近，未聚合的抗蚀膜得不到充分的清洁显影，抗蚀剂的