从GFP2011看硅光子学的进展-激光与红外.PDF

第４２卷　 第９期 　　　　　　　　　　　　　　　激 光 与 红 外 Ｖｏｌ．４２，Ｎｏ．９ 　 ２０１２年９月　　 　 　　　　　　　　　　　ＬＡＳＥＲ　＆　ＩＮＦＲＡＲＥＤ Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ，２０１２ 　　文章编号：１００１５０７８（２０１２）０９０９７１０５ ·综述与评论 · 从 ＧＦＰ２０１１看硅光子学的进展 １ ２ 陈媛媛 ，余金中 （１．北京工商大学计算机与信息工程学院，北京 １０００４８；２．中国科学院半导体研究所集成光电子国家重点实验室，北京 １０００８３） 摘　要：半导体硅材料不仅是一种电子材料，也是一种合适的光子材料。成熟的微电子加工工 艺更为硅光子学提供了坚实的技术基础。根据第八届 族光子学国际会议的信息，文章综述 Ⅳ 了硅基光波导技术特别是ＳＯＩ光波导技术研究的最新进展，着重介绍了光调制器、亚波长光 栅、混合集成、封装以及波导加工等方面的新理念与新方法。 关键词：ＳＯＩ；光波导；硅基；光子学；ＧＦＰ２０１１ 中图分类号：ＴＮ２５２　　文献标识码：Ａ　　ＤＯＩ：１０．３９６９／ｊ．ｉｓｓｎ．１００１５０７８．２０１２．０９．００１ ＲｅｃｅｎｔｐｒｏｇｒｅｓｓｏｎｓｉｌｉｏｎｐｈｏｔｏｎｉｃｓｉｎＧＦＰ２０１１ １ ２ ＣＨＥＮＹｕａｎｙｕａｎ，ＹＵＪｉｎｚｈｏｎｇ （１．ＣｏｌｌｅｇｅｏｆＣｏｍｐｕｔｅｒａｎｄＩｎｆｏｒｍａｔｉｏｎＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ＢｅｉｊｉｎｇＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙａｎｄＢｕｓｉｎｅｓｓＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙ，Ｂｅｉｊｉｎｇ１０００４８，Ｃｈｉｎａ； ２．ＳｔａｔｅＫｅｙＬａｂｏｒａｔｏｒｙｏｎＯｐｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ，ＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＳｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒｓ，ＣｈｉｎｅｓｅＡｃａｄｅｍｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅｓ，Ｂｅｉｊｉｎｇ１０００８３，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒｓｉｌｉｃｏｎｉｓａｋｉｎｄｏｆｅｌｅｃｔｒｏｎｍａｔｅｒｉａｌ，ａｎｄｉｓａｌｓｏａｋｉｎｄｏｆａｐｐｒｏｐｒｉａｔｅｐｈｏｔｏｎｍａｔｅｒｉａｌ．Ｍａｔｕｒｅ ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓｐｒｏｃｅｓｓｅｓｐｒｏｖｉｄｅｓｏｌｉｄｆｏｕｎｄａｔｉｏｎｆｏｒｓｉｌｉｃｏｎｐｈｏｔｏｎｉｃｓ．ＴｈｅｒｅｃｅｎｔｐｒｏｇｒｅｓｓｏｆＳｉｂａｓｅｄｏｐｔｉｃａｌ ｗａｖｅｇｕｉｄｅｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙｅｓｐｅｃｉａｌｌｙｔｈｅＳＯＩ（ｓｉｌｉｃｏｎｏｎｉｎｓｕｌａｔｅｒ）ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙｒｅｐｏｒｔｅｄｏｎＧＦＰ２０１１ｈａｓｂｅｅｎｏｖｅｒｖｉｅｗｅｄ． Ｔｈｅｍｏｄｕｌａｔｏｒ，ｓｕｂｗａｖｅｌｅｎｇｔｈｇｒａｔｉｎｇ，ｈｙｂｒｉｄｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ，ｐａｃｋａｇｉｎｇａｎｄｗａｖｅｇｕｉｄｅｎｅｗｐｒｏｃｅｓｓａｒｅｉｎｔｒｏｄｕｃｅｄｉｎｄｅｔａｉｌ． Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：ＳＯＩ；ｏｐｔｉｃａｌｗａｖｅｇｕｉｄｅ；ｓｉｌｉｃｏｎｂａｓｅｄ；ｐｈｏｔｏｎｉｃｓ；ＧＦＰ２０１１ １　引　言 有晶片尺寸大；热学、电学性能良好；易加工，机械性 ｔｈ 能好；与成熟的微电子工艺兼容等优点。虽然硅材 第八届 族光子学国际会议（ｔｈｅ８ＩＥＥＥＩｎｔｅｒ Ⅳ ｎａｔｉｏｎａｌＣｏｎｆｅｒｅｎｃｅｏｎＧｒｏｕｐ Ｐｈｏｔｏｎｉｃｓ，ＧＦＰ２０１１） 料也存在发光困难，电光系数小等缺陷，一定程度上 Ⅳ 已于２０１１年９月 １４日到 １６日在英国伦敦召开。 阻碍了其发展速度。但硅仍不失为一种非常有潜力 该系列会议自２００４