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纳米级加工技术 郭耀梁 摘要：本文简要介绍了纳米技术的发展和定义，论述了纳米级加工及其采取的加工工艺方法和各自的主要特点。 关键词：纳米技术；纳米级加工；电子束加工；微电铸工艺；微细电火花加工 纳米技术（anotechnology）是用单个原子、分子制造物质的科学技术。纳米科学技术是以许多现代先进科学技术为基础的科学技术，它是现代科学（混沌物理、量子力学、介观物理、分子生物学）和现代技术（计算机技术、微电子和扫描隧道显微镜技术、核分析技术）结合的产物lectron Beam Machining）利用高能量密度的电子束对材料进行工艺处理的一切方法统称为电子束加工。包括电子束焊接、打孔、表面处理、熔炼、镀膜、物理气相沉积、雕刻、铣切、切割以及电子束曝光等，其中电子束焊接、打孔、物理气相沉积以及电子束表面处理等在工业上的应用最为广泛。 在真空中将阴极（电子枪）不断发射出来的负电子向正极加速，并聚焦成极细的、能量密度极高的束流,高速运动的电子撞击到工件表面,动能转化为热能,使材料熔化、气化并在真空中被抽走。控制电子束的强弱和偏转方向,配合工作台的数控位移,可实现打孔、成型切割、刻蚀、焊接、表面热处理、光刻曝光等工艺。 控制电子束能量密度的大小和能量注入时间，就可以达到不同的加工目的。如只使材料局部加热就可进行电子束热处理；使材料局部熔化就可进行电子束焊接；提高电子束能量密度，是材料熔化和汽化，就可以进行打孔、切割等加工；利用较低能量密度的电子束轰击高分子材料时产生化学变化的原理，即可进行电子束光刻加工。 电子束加工的主要特点：（1）电子束能够极其微细的聚焦，可进行微细加工，加工速度很快，能量使用率可高达90%。（2）加工材料的范围广。利用电子束几乎可以焊接任何材料，包括难熔金属（W、Mo、Ta、Nb）、活泼金属（Be、Ti、Zr、U）、超合金和陶瓷等。由于电子束能量密度高，可使任何材料瞬时熔化、汽化且机械力的作用极小，不易产生变形和应力，故能加工各种力学性能的导体、半导体和非导体材料。（3）加工在真空中进行，非接触式加工，不会产生应力和变形，并且污染少，加工表面不易被氧化。(4）电子束加工加工过程可自动化，需要整套的专用设备和真空系统，价格较贵，故在生产中受到一定程度的限制。 此外电子束焊接的焊缝位置精确可控、焊接质量高、速度快，在核、航空、火箭、电子、汽车等工业中可用作精密焊接。近年来，该技术不断发展，在大批量生产、大型零件制造以及复杂零件的加工方面都显示出其独特的优越性，显示出巨大的经济效益和社会效益。 2、离子束加工(Ion Beam Machining)是利用加速、聚焦而成的离子束轰击材料表面进行的加工。利用离子源产生的离子，在真空中经加速聚焦而形成高速高能的束状离子流，从而对工件进行加工的方法。 离子束加工的基本原理是在真空条件下，先由电子枪产生电子束，再引入已抽成真空且充满惰性气体之电离室中，使低压惰性气体离子化。由负极引出阳离子又经加速、集束等步骤，获得具有一定速度的离子，投射到材料表面，产生溅射效应和注入效应。由于离子带正电荷，其质量比电子大数千、数万倍，所以离子束比电子束具有更大的撞击动能，是靠微观的机械撞击能量来加工的。 离子束加工的精度非常高，污染少，加工过程中应力、热变形等极小但.离子束加工设备费用高、成本贵、加工效率低，不易推广。　 　离子束加工的分类，离子束加工依其目的可以分为蚀刻及镀膜两种。蚀刻又可在分为溅散蚀刻和离子蚀刻两种。离子在电浆产生室中即对工件进行撞击蚀刻，为溅散蚀刻。产生电子使以加速之离子还原为原子而撞击材料进行蚀刻为离子蚀刻。 （1）离子蚀刻或离子铣削：Ar离子倾斜轰击工件，使工件表面原子逐个剥离。离子蚀刻用于加工陀螺仪空气轴承和动压马达上的沟槽，分辨率高，精度、重复一致性好。应用的另一个方面是蚀刻高精度图形，如集成电路、光电器件和光集成器件等征电子学构件。太阳能电池表面具有非反射纹理表面。离子束蚀刻还应用于减薄材料，制作穿透式电子显微镜试片。　　 （2）离子束镀膜加工：离子束镀膜加工有溅射沉积和离子镀两种形式。离子溅射沉积是Ar离子倾斜轰击某种材料的靶，靶材原子被击出后沉淀在靶材附近的工件上，使之表面镀上一层薄膜。离子镀或离子溅射辅助沉积和离子溅射沉积的区别在于它同时轰击靶材和工件，目的是为了增强膜材与工件基材之间的结合力。镀膜还可以采取离子注入，即较高能量的离子束直接轰击被加工材料，使工件表面层含有注入离子，改变了工件表面的化学成分，从而改变了工件表面层的物理、力学和化学性能，满足特殊领域的要求。 离子镀可镀材料范围广泛，不论金属、非金属表面上均可镀制金属或非金属薄膜，各种合金、化合物、或某些合成材料、半导体材料、高熔点材料亦均可镀覆。离子束镀膜技术可用于镀制润滑膜、耐热膜、耐磨