用户培训-工作曲线校准.ppt

建立校准曲线 回归分析的目的建立标样浓度与测量强度之间的关系式 回归分析要解决两个问题：基体效应校正和谱线重叠校正 回归分析 回归分析 启动XRF System Setup 选择Open calibration for application 选择Limestone 基体效应校正——FP法 基体效应校正——理论Alpha系数法 基体效应校正——实验校准法 基体效应校正 将所有化合物的Matrix Model切换为FP 点左上角的全选按钮，选定所有化合物 点Calculate计算工作曲线的D和E值 回归分析—基体效应校正 在SuperQ中4种基体效应校正方法 — 内标法（靶线内标法,背景内标法，内标添加法） — 经验系数（不需要分析全部元素） — 理论Alpha系数法（要求分析全部元素，也可设置平衡项） — FP法（要求分析全部元素，也可设置平衡项） 本实例用 FP 法校正基体效应 如要使用FP法校正基体效应，只需把Matrix Model切 换为FP即可。理论上,FP法只需2个标样即可，而且 由曲线外推得到的浓度也比较可靠 回归分析—基体效应校正 如要使用经验系数和理论Alpha系数， Matrix Model 必须是Classic 经验系数需要大量的校准标样，在标样数量较少的情况下，存在一定的风险。通常计算一个，然后锁定，再计算下一个。 经验系数是与工作曲线的 D和E同时由回归分析得到。 回归分析—谱线重叠校正 如要作谱线重叠校正，在回归窗口的下半部，整行选中某个化合物然后点Add按钮，从Lo(C)或Lo(R)栏选择干扰元素 回归分析—谱线重叠校正 Lo(C) 用含量方式计算重叠系数 Lo(R) 用强度方式计算重叠系数 典型材料中干扰谱线 回归结果 回归结果 校准曲线 校准窗口 校准测量 校准细节 校准细节 误差权重 为了降低低浓度端的误差，可以选择适当的误差权重；默认的误差权重是: 方根 (C = 0.1 %) 关于谱线重叠 如果存在谱线重叠，须在测量中加入干扰元素的一条谱线 如果干扰很严重，当灵敏度降低不太多时可加入另一条替代谱线 校准要点 开始测量前，确保使用正确的谱线. 检查 PHD’s, 角度 微量和痕量元素（峰背比小）要加入背景 加入Compton 线。有疑问的情况下，还要测量替代谱线 测量时间足够长 主量 : 40 * E [s], 痕量 (1ppm) : 100.000*-D*E [s] 包括干扰元素的测量. 校准要点 需要的标样数量: 6 + 3*(经验校正系数的数目). 在实际回归分析时最后确定测量时间，背景等（根据精度要求进行调整）. 不要从回归分析里删除标样（除非……） 使 K 数值最小. 保存校正曲线 数据库备份 ! 关于背景校正 不会改善主量元素的分析结果 背景校正增加了信号的误差！因为Rnet=Rraw-Rbackground 因此背景校正只用于痕量元素的分析，背景实际上是变化的（与样品的组成有关） 1 个通道设置一个背景一般足够了 背景可以被多个通道共享，从而减少测量时间 什么是基体影响 ? 基体影响 吸收和增强总是相伴而生的。 Al2O3/SiO2 二元体系的样品 质量衰减系数 元素之间的影响规律 经验校正数学模型 经验校正数学模型：实例 α系数 理论 (基本参数) 经验 (回归/经验) α系数 没有经过校正的Ni校准曲线(不锈钢样品） 经过α系数校正后的Ni校准曲线(不锈钢样品） 添加校正因子 Ni 用 α系数， ?系数和重叠校正 克服或校正基体效应的方法 1 忽略基体效应： 基体匹配法(matrix match method) 使用与未知样基体组成相似的标准样品，常常在较窄的浓度范围内或低浓度时，强度与浓度成线性关系。（或二次曲线） 薄试样法(Thin film method) 当试样厚度仅为几百或几千时，其基体效应可予忽略，此时分析方法变成绝对法，但荧光强度也大为下降 克服或校正基体效应的方法 2 减小基体效应： 使用稀释剂将未知样予以高倍稀释和（或）添加重吸收剂，使经处理后的试样基体处于较为恒定的状态。 例如熔融制样法，经熔剂稀释。 0.66g 样品 + 6.8g 12-22(Li2B4O7-LiBO2) 加重吸收剂La2O3 克服或校正基体效应的方法 3 补偿基体效应： (1)??内标法（The internal standard method） 在试样中加入已知量的内标元素，该内标元素X光荧光特性应与 分析元素相似 常用于确定类型试样中单个元素的测定，（如