退火对二氧化钛薄膜光学性能的影响 the effect of annealing on the optical properties of tio2 thin films.pdfVIP

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2017-08-18 发布于上海
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退火对二氧化钛薄膜光学性能的影响 the effect of annealing on the optical properties of tio2 thin films.pdf

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退火对二氧化钛薄膜光学性能的影响 the effect of annealing on the optical properties of tio2 thin films

退火对二氧化钛薄膜光学性能的影响王军“6，谢亚楠6 (江西科技师范学院a．江西省材料表面工程重点实验室；b．材料科学与工程学院，南昌330013) nm减小到400 厚度和带隙。结果表明：当波长从700 nm时，薄膜的折射率从1．465增加到1．485。退火前后 ilm和652．4547 Ti02薄膜的厚度分别为595．836 nm。未退火TiO：薄膜的光学带隙为3．85eV，500℃退火后 TiO：薄膜的光学带隙为3．67 eV。与未退火薄膜相比，500℃退火后TiO：薄膜的吸收边出现了“红移”，光响应区范围变大，提高了可见光的利用率。关键词：TiO：薄膜；溶胶一凝胶法；DTA分析；透射谱中图分类号：TM215．3文献标志码：A 文章编号：1009—9239(2011)06—0040—04 TheEffectof onthe AnnealingOpticalProperties ofTi0ThinFilms 2 5 Yanan WangJun8…．Xie MaterialsScience (a．JiangxiKeyLaboratoryofSurface of Engineering；b．School Scienceand Normal 33013，China) Engineering，JiangxiTechnologyUniversity，Nanchang Abstract：ATiO2filmwas onthe slide a modified method．The prepared glass by sol-gel Ti02 was DTA．Thetransmissionofthefilmwithout andafter500 powderanalyzedby spectra annealing weretested the refractiveindex，thicknessandband of ℃annealing byspectrophotometer，and gap thefilmwerecalculated method．Theresults that usingenvelope show therefractiveindexin— creasesfrom1．465to1．485whenthe decreasesfrom700nmto400am．Thethickness wavelength ofthefilmwithoutandafter is595．836amand652．4547 500℃annealing band ofthefilmwithout is3．85