第七章2009分压力测量和残余气体分析.pptVIP

第七章分压力测量和残余气体分析 第七章分压力测量和残余气体分析 第七章分压力测量和残余气体分析 END 谢谢大家！ Vacuum measurement and leak detection真空测量与检漏之 分压力测量和残余气体分析 真空室内残余气体的来源及危害： 未抽除的原气体成分。 吸附气体。 漏气。 抽气系统反气、反油的成分。 工艺过程的物理化学过程的放气。 第七章分压力测量和残余气体分析 第七章分压力测量和残余气体分析 分压力测量和残余气体分析的重要性： 溅射和气体等离子体工艺过程中的本底气体成分、薄膜中放出气体载荷、气体纯度需要了解。 电真空器件中硫、氯可造成氧化物阴极的严重中毒，而惰性气体多些却无碍。 为了研究真空中的各种过程，如吸气、放气、阴极激活、中毒等过程，残余气体分析或分压力测量是必不可少的手段。 超高真空下气体成分常常是极不相同的，在气体成分未明时超高真空计的读数就无法确定压力。 分压力测量和残余气体分析的重要性： 所以，真空科学与技术及具体的工艺和应用中需要把握气体的种类和成分，以及各成分气体所占的比重。 前面涉及的真空计都是用来测定全压力的，本章的分压力真空计是测量真空中混合气体组分和相应的分压力值，由分压力真空计测得的混合气体各组分分压力之和才是其全压力。 全压力测量反映真空的数量方面，而分压力测量即反应数量方面，又反应真空的质量方面，给出了质和量两个方面的指标。 第七章分压力测量和残余气体分析 分压力测量或残余气体分析的过程及主要性能： 分压力测量所使用的仪器大都是专用的小型质谱类仪器――真空质谱计。由于目前的分压力真空计大多数精度不高，只能用于分析气体各种成分的存在并估计其大小，尚未能进行准确定量测量，这时称为残余气体分析器。 作为分压力真空计或残余气体分析器的真空质谱计都属于电离类型的，按原子离子或分子离子的荷质比进行分析，其分析过程可分为三个阶段。 第七章分压力测量和残余气体分析 分压力测量或残余气体分析的过程及主要性能： （1）在离子源中用电子碰撞的方法将气体电离。 （2）在质量分析器中利用磁偏转、共振、飞行时间不同等质量分析技术，将离子按荷质比不同进行分离。 （3）检测器（或离子收集极）接收分离的离子，将离子流放大，在显示装置上依次显示出每一质荷比的离子流强度。 第七章分压力测量和残余气体分析 分压力测量或残余气体分析的过程及主要性能： 真空质谱计一般能扫描1～50u（u－1个原子质量单位），以至1～300u的质量范围，并能分辨相隔1u的相邻离子。仪器的理想输出情况，即各种离子的电流按其质量大小排列的谱线图，称之为“质谱棒图”。实测结果往往是线条已被一些峰所取代。 第七章分压力测量和残余气体分析 图10-37 用离子的质量数来表示的质谱图 图10-38 典型残余气体质谱图 磁偏转质谱计、回旋质谱计、飞行时间质谱计、射频质谱计、谐振感应质谱计和四极质谱计等。 第七章分压力测量和残余气体分析 分压力测量或残余气体分析的过程及主要性能： 真空质谱计的扫描： 第七章分压力测量和残余气体分析 分压力测量或残余气体分析的过程及主要性能： 真空质谱计的主要性能参数： （1）质量范围：在满足一定分辨能力前提下，质谱计能分析的质量数范围叫做该质谱计的质量范围。 质量数：组成分子的所有原子核中质子和中子的数目总和，在数值上等于分子量（以原子质量单位u表示）的整数值，在进行残余气体分析和分压力测量时，常用质量数近似表示原子量的大小，这是由于在真空技术所涉及的质量分离中，相邻两离子质量差等于或大于1u。M/Z 第七章分压力测量和残余气体分析 分压力测量或残余气体分析的过程及主要性能： 真空质谱计的主要性能参数： （2）分辨能力和分辨本领：仪器的绝对分辨能力是仪器对给定质量M的离子的分离能力的一种量度，由峰宽△M表示。峰宽是在一定峰高处测量。 仪器的分辨本领是质量与绝对分辨能力之比，即M/△M 。(灵敏度) 第七章分压力测量和残余气体分析 分压力测量或残余气体分析的过程及主要性能： 真空质谱计的主要性能参数： 灵敏度与分辨能力的关系；相对灵敏度；P73 最小可检分压力是反映灵敏度和仪器噪声的综合指标，2In。 第七章分压力测量和残余气体分析 分压力测量或残余气体分析的过程及主要性能： 真空质谱计的主要性能参数： 分压比灵敏度是质谱计作为检漏和痕量分析的重要指标，与气体种类有关，被检气体质量数与背景气体质量数差别越大，谱峰越明显，性能越好。所以，测试时必须注明被检气体。