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cmp大盘结构研究 study of the tables structure in cmp device
团笪星垦墓蚤基墨基墓螫呈基 堑鳖剑遣塑鱼皇三茎
CMP大盘结构研究
陈波，徐存良
(中国电子科技集团公司第四十五研究所，北京101601)
摘 要：在CMP设备中，大盘的整体性能直接影响抛光后晶圆的表面质量和整体面型精度。分
析了三种大盘的受力结构．选择应用交叉圆锥滚子轴承的结构为最优。给出了抛光大盘的陶瓷台
面的温度控制水道的三个分布模式。
关键词：表面跳动；水压；温度；轴向跳动
中图分类号：TN305 文献标识码：A
the inCMPDevice
of Table7SStructure
Study
CHEN
Bo，XU
Cunliang
45mResearchInstitute
(The ofCETC，Beijing101601，China)
thesurface andthe
Abstract：IntheCMPdevice，themaintable’S directinfluence
performance quality
overallsurface ofthe threestructuresofthemaintable，Selectthe
precisionpolishedwaf’er．Analysis
whichusethecrossedroller for threewaterchannel forthe
structure optimal．List patters
bearing
ceramictable．
controlofthe
temperature
runout Axisrunout
Keywords：Surfacehydraulicpressure：Temperature
抛光大盘是CMP设备上的重要部件，其整体载器吸附晶圆压在大盘上做旋转运动，角速度
刚性、表面跳动、旋转精度直接影响晶圆抛光后的 ∞。，大盘自转角速度∞：，晶圆与大盘的相对运动
整体面型精度和表面质量。对抛光大盘的受力状 形成摩擦去除晶圆的化学反应层。由于材料的去
态和性能要求进行分析从而找到合适的部件结构 除率与相对运动速度成正比，故为使材料去除均
可以有效地降低加工和装配的难度并提高设备的 匀须使∞。=∞：=tO且同向，此时由平面几何知识
整体性能。 可得抛光过程中晶圆上任何一点相对于大盘的
速度均为：
1抛光大盘工作时的运动及受力分析 7·60
V=OO
在抛光过程中晶圆圆心位于抛光大盘半径的
抛光大盘工作时的运动原理如图l所示，承 中心位置附近，抛光大盘的受力模型如图2所示。
收稿日期：2013．01．08
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