65nm的互连线工艺灵敏度分析 analysis the sensitivity of interconnect to process variation for 65 nm technology node.pdfVIP

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2017-08-20 发布于上海
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65nm的互连线工艺灵敏度分析 analysis the sensitivity of interconnect to process variation for 65 nm technology node.pdf

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65nm的互连线工艺灵敏度分析 analysis the sensitivity of interconnect to process variation for 65 nm technology node

第3l卷第3期电子器件 V01．31No。3 Chinese Of目Ⅸ衄口nDevioes 2008年6月 Journat Jun．2008＼ the ofInterconnectto Analysis Sensitivity ProcessVariationam Node for65 Technology JIANG Li—fei，SUNLing-ling。，ZHOULei CAD (Microelectronic Dianzi 310018，China) Center，HangzhouUniversity，Hangzhou the ofnewsub Scale Abstract：With developmentVeryLarge the ducedvariationhasbecamethe factoronIC for willdiscuss important paper designhighyield．This variation the soft— ofinterconnectto variation．First，weuseTCAD process byanalysissensitivity process waretosimulatea of the valueofthe one-variable 3-a samplepiece experiments．Bycalculating samples， wecando ofthe between and processparameters． qualitativeanalysis relationshipparasiticparameters Then，weuseLeast todocurve the ofintercon— Squaretechnology fitting．Andcalculatingsensitivity by nectto from curve，wecando ofthe processparameterfitting quantitativeanalysisrelationshipthrough．It indicatesthatinterconnec