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高反射光学薄膜的温度稳定性分析 temperature stability of highly reflective coating
第30卷第4期 光 电 子 技 术 V01．30No．4
2010年12月 0PTOEI，ECTRONICTECHNOI。OGY Dec．2010
高反射光学薄膜的温度稳定性分析。
郝宏刚1，王文梁
(1_重庆邮电大学光电工程学院，重庆400065；2．南昌大学物理系，南昌330031)
摘 要：利用高桥模型讨论了高反射光学薄膜的温度稳定性问题，理论上着重分析了高反射
主反射光谱带边缘线性区域波长位置处反射率温度系数以及膜料和基底热物理参数对它的影
，得出该系数正比于膜料的热物理参数，而反比于基底的线性热膨胀系数。对于文中分析的样品，
膜响其 温度稳定性受高折射率材料的折射率温度系数影响最大。
关键词：高反射光学薄膜；温度稳定性；反射率温度系数
中图分类号：0484．4文献标识码：A 文章编号：1005—488X(2010)04—0241—05
of Reflective
TemperatureStabilityHighly Coating
Hao
Honggan91，WangWenlian92
Electronic Posts
of of
(1．College Engineering，ChongqingUniversity
and 400065，CHN；
Telecommunications，Chongqing
of 330031，CHN)
2．PhysicalDepartmentNanchangUniversity，Nanchang
Abstract：Theonthe ofthe
analysis temperaturestability by
HR(highlyreflective)coating
Takahashimodelis is todescribethe coefficientofre—
presented．Atheorydeveloped temperature
onthe ofthesubstrateand materials．It
flectivitydependencethermo—physicalproperties coating
iSfoundthatthe coefficientof atthe ofthemainreflectionbandof
temperature reflectivityedge
theHR is tothe ofthe in—
coatinglinearlyproportionalthermo—physicalproperties
coatings，and
thelinearthermal ofthe
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