SJT11181 1998净化涂胶台通用规范.pdfVIP

ICS 31.020 L 97 备案号:2084一1998 SJ 中华人民共和国电子行业标准 SJ/T 11181一1998 净化涂胶台通用规范 General specification for resist一coating stage with purified room 1998-03-11发布 1998-05-01实施 中华人民共和国电子工业部 发布 标准分享网 免费下载 前 言 本标准是根据国内净化涂胶台的技术条件，参照国外同类设备技术资料进行编制的。 本标准由电子工业部标准化研究所归口。 本标准起草单位:电子工业部半导体专用设备研究所。 本标准起草人:赵怀科、黄燕。 标准分享网 免费下载 中华人民共和国电子行业标准 净化涂胶台通用规范 SI/T 11181一1998 General specification for resist一coating stage with purified room 范围 本标准规定了净化涂胶台(以下简称涂胶台)的定义、要求、试验方法、检验规则及标志、包 装、运输、贮存。 本标准适用于制造半导体集成电路专用的净化涂胶设备，其它类型的涂胶设备也可参照 使用。 2 引用标准 下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所 示版本均为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的 可能性。 GB 191-90 包装储运图示标志 GB 2681-81 电工成套装置中的导线颜色 GB 2682-81 电工成套装置中的指示灯和按钮的颜色 GB 3768-83 噪声源声功率级的测定一简易法 GB 5226--85 机床电气设备通用技术条件 GB 6388-86 运输包装收发货标志 SJ/T 142-19% 电子工业专用设备通用规范 SJ/T 10152-91 集成电路主要工艺设备术语 SJ/T 10386-93 电子工业专用设备可靠性指标验证试验方法 SJ 20385-93 军用电子设备电气装配技术要求 3 定义 本标准采用下列定义。 3.1基片 substrate 又称衬底。置于相同或不同材料之下，对其起有支撑或基座作用的半导体单晶或其它材 料构件 [SJ/T10152-91中]e 3.2 涂胶 gule coating 在高速旋转下，由于离心作用和液体表面张力使胶液均匀地涂覆在基片上的过程。 3.3 涂胶台 ，esist-coating state 中华人民共和国电子工业部1998-03-11批准 1998-05-01实施 标准分享网 免费下载 一 1 一 S1/T 11181一，998998 利用液体表面张力和基片高速旋转的离心力的作用，将光致抗蚀剂均匀地涂粗在基片表 面的设备 [SI/T 10152-91中3.1.31. 4 分类 4.1按自动化程度可分为: a)全自动净化涂胶台; b)半自动净化涂胶台; c) 手动净化涂胶台。 4.2 按工位可分为: a)单头净化涂胶台; b)多头(多工位)净化涂胶台。 .3 按有无烘干装置可