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4h-sic mesfet直流i-v特性解析模型 an analytical model of i-v characteristics of 4h-sic mesfet
■覆翟雹冒皿 壁堂坚董;兰旦二墅竺坚兰墨里垦!亘速!:兰壁壁壁堑堡型
4H—SiC
MESFET直流J—y特性解析模型。’
任学峰,杨银堂,贾护军 ’.
(西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 陕西西安 710071)
摘 要:提出一种改进的4H—SiC
MESFET非线性直流解析模型,该模型基于栅下电荷的二维分布进行分析,在分析电
场相关迁移率、速度饱和的基础上,考虑沟道长度调制效应对饱和区漏电流的影响,建立基于物理的沟道长度调制效应模
型,模拟结果与实测的卜-V特性较为吻合。在器件设计初期,可以有效地预测器件的工作状态。
关键词:4H—SiC;射频功率MESFET}卜·V特性;解析模型 、
中图分类号:TN386 文献标识码:B 文章编号:1004—373x(2008)10—024—03
An ModelofJ—V
Analytical Characteristicsof4H—SiCMESFET
REN
Xuefeng,YANG
Yintang,JIAHujun
Labof ofEducationforWide SemiconductorMaterialsand
(Key Ministry Band—Gap Devices,InstiofMieroele,Xidian
Abstract:An modelfor4H—SiCMESFETis isbasedonan of 2一D
improvedanalytical the dis—
developed。whichanalysis
tributionof underthe saturationand modulationeffects
charges gate,withfield—dependencemobility,velocity channel—length
takenintoconsideration.Simulationresultsshowthatthemodelwith matchthe f
modulationeffects measured
channel—length
—Vcharacteristicsinthesaturation theinitial ofdevice,theworkstatecanbe
region.In design predictedeffictive.
Keywords:4H—SiC;RFMESFET;J—y model
characte“stics;analytical
SiC是一种宽禁带半导体,有许多值得关注的物理特 拟合参数。在300
K时‘“,产曲一40em2/Vs,∥。,一
950
性和电特性,具有禁带宽度大(3.2eV)、临界击穿电场强 cm2/Vs,口一0.76和
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