248nm与808nm激光电化学刻蚀不同材料的实验研究 experimental study on 248 nm and 808 nm laser electrochemical etching of different materials.pdfVIP

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2017-08-25 发布于上海
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248nm与808nm激光电化学刻蚀不同材料的实验研究 experimental study on 248 nm and 808 nm laser electrochemical etching of different materials.pdf

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248nm与808nm激光电化学刻蚀不同材料的实验研究 experimental study on 248 nm and 808 nm laser electrochemical etching of different materials

248nm与808nm激光电化学刻蚀不同材料的实验研究李雪梅1 龙芋宏1 邹登峰2 熊良才3 1桂林电子科技大学机电工程学院，广西桂林5410042桂林医学院药学院，广西桂林541004 3华中科技大学机械科学与工程学院，湖北武汉430074 为探讨不同激光电化学刻蚀的工艺特性，采用两种激光(KrF：248nm，20ns和半导体激光：808nm连续)作为光源,聚焦激光照射浸于溶液中的阳极上，实现激光诱导电化学刻蚀材料。在实验的基础上，通过对金属和半导体材料刻蚀的比较，分析了不同激光电化学刻蚀不同材料的工艺特点。讨论两种激光对半导体与金属的不同刻蚀机制，并比较了这两种激光对不同材料的刻蚀性能。实验表明，248nm激光电化学刻蚀工艺中直刻占主要部分，该工艺刻蚀硅比刻蚀金属有更好的刻蚀速率;808nm激光诱导电化学刻蚀工艺是一个光热刻蚀过程，该工艺不适合刻蚀半导体材料。激光；刻蚀；电化学; Si；不锈钢 TN149 A 10.3788/A0291 ExperimentalStudyon248nmand808nmLaserElectrochemicalEtchingofDifferentMaterials LiXuemei LongYuhong ZouDengfeng XiongLiangcai 2011-07-06 2011-07-18 国家自然科学基金资助项目(项目编号；广西壮族自治区教育厅科技资助项目(项目编号：201012MS086) 李雪梅(1971-)，女（汉），副教授，硕士，主要研究方向为先进设计与特种加工技术、机电控制与自动化。Email：lxm@ 邹登峰(1975-)，男，讲师，目前研究方向为激光在医学的应用。通讯地址；桂林医学院药学院，541004eEmail:zdf1226@163.com 292 293 @@[1] MDatta,LRomankiw.ApplicationofChemicaland ElectrochemicalMicromachininginElectronicsIndustry [J].JournaloftheElectrochemicalSociety,1989,136 (6):285-292. @@[2] MDatta,LTRomankiw,DRVigliotti,etal.Laser EtchingofMetalsinNeuralSaltSolutions [J].Appl. Phys.Lett.,1987(51):2040-2043. @@[3] RJvonGuffeld,KGSheppard.Electrochemicalmicro @@[7] PAKohl.Photoelectrochemicaletchingofsemiconduc fabricationbylaser-enhancedphotothermalprocesses tors [J].IBMJournalofResearchandDevelopment, [J].IBMJournalofResearchandDevelopment,1998,42 1998,42(5):629-637. (5):639-654. @@[8]宋登元，郭宝增，李宝通.Ar+激光诱导湿刻Si的特性研 @@[4] RNowak,SMetev.Thermochemicallaseretchingof 究[J].激光技术，1999，23(3)：190-193. stainlesssteelandtitaniuminliquids[