干冰微粒喷射清洗技术 carbon dioxide snow jet cleaning technology.pdfVIP

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2017-08-25 发布于上海
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干冰微粒喷射清洗技术 carbon dioxide snow jet cleaning technology.pdf

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干冰微粒喷射清洗技术 carbon dioxide snow jet cleaning technology

加工、测量与设备干冰微粒喷射清洗技术郭新贺，王磊，景玉鹏 (中国科学院微电子研究所，北京 100029) 摘要：简要介绍了随着工艺节点的缩小，传统RCA清洗方法在硅片清洗工艺中的局限性和弊端，进而提出了以C0：为介质的新型干冰微粒喷射清洗方法。从C02的物理特性出发，论述了 C0：流经喷枪后形成干冰微粒的机理，并简要分析了干冰微粒喷射技术对颗粒污染物和有机污染物的清洗机理。在此基础上，介绍了自主研发的一台基于干冰微粒喷射技术的半导体清洗设备，对该设备的结构和各部分的作用作了简要介绍，论述了使用该设备对硅片进行清洗的工艺流程。通过对比实验发现，采用压强为8MPa、纯度为5N的CO：作为气源，喷嘴前压强设置为 11MPa，使用该设备可以达到很好的清洗效果。关键词：RCA清洗；硅片清洗；C02；干冰微粒喷射；清洗设备 CarbonDioxideSnow Technolo Jet Cleaning Guo Xinhe，WangLei，JingYupeng (InstituteMicroelectronics，Chinese 100029，China) of AcademyofScience，Beijing Abstract：Withthedrasticshrinkofthesemiconductornode，thelimitationsand technology oftraditionalRCA methodsareintroduced thenthecarbondi— shortcomings cleaning briefly。and oxidesnowet asanovel for is on discussed．Based j cleaning cleaningtechnologycleaningprocess the ofcarbon mechanismsof ice dioxide，the forma— specialphysicalproperties drymicro—particle carbondioxide anorificeare the tionasthe passesthrough discussed，andcarbondioxidesnow jat mechanismsforthe and are theself- cleaning particleorganicpollutantsanalyzedbriefly．Then madesemiconductor basedonthecarbondioxidesnow was cleaning