pdp制作中的曝光技术 exposure technology for pdp manufacturing.pdfVIP

田玉民，罗向辉等：PDP槲：中的曝光技术 文章编号：1006—6268(2008)03—0044—)4 技 术 PD P制作中的曝光技术 交 流 田玉民。罗向辉 (四川世纪双虹显示器件有限公司北京PDP研发中心，北京100085) 摘 要：随着等离子显示器(PDP)制作技术的逐渐成熟，光刻技术在PDP的制作中也越来越重 要。本文论述了在PDP制作中影响曝光质量的有关因素，从曝光的主要影响因素进行阐述，并 结合实例进行了分析论证。 关键词：曝光量；间隙；照度；曝光时间；母版 中图分类号：TNl41．5文献标识码：B for PDP ·ExposureTechnologyManufacturing TIANYu-min。LUO Xiang-hui PDPResearchand (SiChuangShiJiShuangHongDisplayLtd．Beijing Development 100085，China) Center。Beijing Abstract：WithPDP is and manufacturingtechnologygradualripe，Photo眦hography is the has the moreandmore in ofPDP．Thisarticlediscussed technology importantmaking factthatinfluencestherelevantfactorswhichare while inPDP， exposedquality making fromthemaininfluencefactorthatis combinedtheembodiment Explain Exposure，Have and that analyzedproves． of tjme Intensity photo-mask． Keywords：exposurequantity；gap illumination；exposure 1 引 言 好坏直接影响到显影后的图形质量，因此做好曝光 工艺的控制在研发、生产中起着关键的作用。 随着科学技术的发展，人们对彩色等离子显示 器提出了更高的要求，高质量、高叵质、高分辨率、 2曝光的基本原理 高对比度、高亮度等都成为PDP的追求目标。同时 PDP要想与LCD显示器竞争，在市场上占有一席之 曝光就是利用感光性浆料的光化学反应，将我 地，高的画